Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы...

за авторством Васильев, В.В., Лучанинов, А.А., Решетняк, Е.Н., Стрельницкий, В.Е., Толмачева, Г.Н., Прибытков, Г.А., Гурских, А.В., Криницын, М.Г.
Опубліковано в: Физическая инженерия поверхности (2015)