Результати пошуку - A. V. Fomin

  • Показ 1 - 2 результатів із 2
Уточнити результати
  1. 1
    Зображення обкладинки

    Modeling the process of removal aimed at cut traces on semiconductor wafers by using the method of contactless chemical-and-dynamical polishing за авторством G. A. Pashchenko, Yu. Kravetskyi, A. V. Fomin

    Опубліковано 2015
    Отримати повний текст
    Стаття

    Додати у Вибране
    Збережено в:
  2. 2
    Зображення обкладинки

    Model of smoothing roughness on GaAs wafer surface by using nonabrasive chemical-and-mechanical polishing за авторством A. V. Fomin, G. A. Pashchenko, Yu. Kravetskyi, I. G. Lutsyshyn

    Опубліковано 2017
    Отримати повний текст
    Стаття

    Додати у Вибране
    Збережено в:

Інструменти для пошуку: