Technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis за авторством Yakovin, S., Dudin, S., Zykov, A., Shyshkov, A., Farenik, V.

Отримати повний текст

Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings за авторством Yakovin, S., Zykov, A., Dudin, S., Sergiec, M., Farenik, V.

Отримати повний текст

The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma за авторством Antonova, T.N., Dudin, S.V., Farenik, V.I.

Отримати повний текст

The energy balance of the asymmetric combined inductive-capacitive RF discharge at low pressure за авторством Zykov, A.V., Polozhiy, K.I., Farenik, V.I.

Отримати повний текст

Spatial distributions of plasma parameters in ICP reactor за авторством Dudin, S.V., Dahov, A.N., Farenik, V.I.

Отримати повний текст

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering за авторством Dudin, S.V., Farenik, V.I., Dahov, A.N., Walkowicz, J.

Отримати повний текст

Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system за авторством Yakovin, S., Zykov, A., Dudin, S., Farenik, V., Goncharov, A., Shelest, I., Kuznetsov, V.

Отримати повний текст

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching за авторством Dudin, S.V., Zykov, A.V., Dahov, A.N., Farenik, V.I.

Отримати повний текст

Integral cluster set-up for complex compound composites syntesis за авторством Yakovin, S.D., Dudin, S.V., Zykov, A.V., Farenik, V.I.

Отримати повний текст

Formation stages of pulsed discharge in oxygen and carbon tetrafluoride за авторством Lisovskiy, V.A., Ogloblina, P.A., Dudin, S.V., Yegorenkov, V.D., Dakhov, A.N., Farenik, V.I.

Отримати повний текст