-
1
-
2
-
3
-
4Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealingза авторством O. O. Gavrylyuk, Yu. Semchuk, O. V. Steblova, A. A. Evtukh, L. L. FedorenkoОтримати повний текст
Опубліковано 2014
Стаття -
5Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealingза авторством O. O. Gavrylyuk, Yu. Semchuk, O. V. Steblova, A. A. Evtukh, L. L. FedorenkoОтримати повний текст
Опубліковано 2014
Стаття -
6за авторством V. B. Neimash, V. Melnyk, L. L. Fedorenko, Ye. Shepeliavyi, V. V. Strilchuk, A. S. Nikolenko, M. V. Isaiev, A. H. KuzmychОтримати повний текст
Опубліковано 2017
Стаття -
7за авторством V. B. Neimash, V. Melnyk, L. L. Fedorenko, Ye. Shepelyavyi, V. V. Strilchuk, A. S. Nikolenko, M. V. Isaiev, A. G. KuzmychОтримати повний текст
Опубліковано 2017
Стаття -
8за авторством V. B. Neimash, V. V. Melnyk, L. L. Fedorenko, Ye. Shepeliavyi, V. V. Strelchuk, A. S. Nikolayenko, M. V. Isaiev, A. G. KuzmichОтримати повний текст
Опубліковано 2017
Стаття -
9
-
10за авторством L. L. Fedorenko, A. M. Prudnikov, A. A. Yevtukh, A. P. Medvid, O. V. Steblova, P. A. Onufriiev, A. A. Korchovyi, V. S. UvarovОтримати повний текст
Опубліковано 2018
Стаття -
11за авторством V. G. Lytovchenko, T. I. Gorbanyuk, V. P. Kladko, A. V. Sarikov, N. V. Safriuk, L. L. Fedorenko, S. Asmontas, J. Gradauskas, E. Sirmulis, O. ZalysОтримати повний текст
Опубліковано 2017
Стаття