Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source за авторством Fedorchenko, V.D., Chebotarev, V.V., Medvedev, A.V., Tereshin, V.I.

Отримати повний текст

Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters за авторством Fedorchenko, V.D., Chebotarev, V.V., Garkusha, I.E., Medvedev, A.V., Tereshin, V.I., Shevchuk, B.A.

Отримати повний текст

HIgh heat flux plasma testing of ITER divertor materials under ELM relevant conditions in QSPA Kh-50 за авторством Makhlaj, V.A., Garkusha, I.E., Aksenov, N.N., Kulik, N.V., Landman, I.S., Linke, J., Medvedev, A.V., Malykhin, S.V., Chebotarev, V.V., Pugachev, A.T., Tereshin, V.I.

Отримати повний текст