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Determination of refractive index dispersion and thickness of thin antireflection films TiO₂ and Si₃N₄ on surfaces of silicon photoelectric converters von Donets, V.V., Melnichenko, L.Y., Shaykevich, I.A., Lomakina, O.V.
Veröffentlicht in Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics (2009)Volltext
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