-
1
-
2Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealingза авторством O. O. Gavrylyuk, Yu. Semchuk, O. V. Steblova, A. A. Evtukh, L. L. FedorenkoОтримати повний текст
Опубліковано 2014
Стаття -
3Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealingза авторством O. O. Gavrylyuk, Yu. Semchuk, O. V. Steblova, A. A. Evtukh, L. L. FedorenkoОтримати повний текст
Опубліковано 2014
Стаття -
4