-
1
-
2
-
3Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealingза авторством O. O. Gavrylyuk, Yu. Semchuk, O. V. Steblova, A. A. Evtukh, L. L. FedorenkoОтримати повний текст
Опубліковано 2014
Стаття -
4Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealingза авторством O. O. Gavrylyuk, Yu. Semchuk, O. V. Steblova, A. A. Evtukh, L. L. FedorenkoОтримати повний текст
Опубліковано 2014
Стаття -
5
-
6за авторством L. L. Fedorenko, A. M. Prudnikov, A. A. Yevtukh, A. P. Medvid, O. V. Steblova, P. A. Onufriiev, A. A. Korchovyi, V. S. UvarovОтримати повний текст
Опубліковано 2018
Стаття