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    Diffusion processes in Ti–Si systems during silicide formation
    von S. E. Bogdanov, G. Beddies, M. Daniel, Yu. N. Makogon
    Veröffentlicht 2013
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  2. 2
    Diffusion under the Action of Shock Compression and Alternating Electric Current at High Temperatures
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  3. 3
    The structural-phase composition in CoSb1,82-5,45 (30 nm)-SiO2 (100 nm)-Si (001) nanoscaled film compositions after deposition and annealings
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