Plasma etching of gallium nitride based heterostructures in production of optoelectronic devices за авторством S. V. Dudin

Отримати повний текст

Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP за авторством S. V. Dudin

Отримати повний текст

Research and development of technological systems based on high-frequency induction discharge for reactive ion-plasma etching of micro- and nanostructures за авторством S. V. Dudin

Отримати повний текст

Langmuir probe in ion-beam plasma: theory VS experiment за авторством S. V. Dudin

Отримати повний текст

Synthesis of dielectric compounds based on a DC magnetron за авторством O. V. Zykov, S. D. Yakovin, S. V. Dudin

Отримати повний текст

Stationary regimes of low pressure magnetron discharge за авторством A. V. Zykov, S. V. Dudin, S. D. Jakovin

Отримати повний текст

Impedance disturbance of the inductive coil interacting with low density plasma за авторством D. V. Rafalskij, S. V. Dudin, K. I. Polozhij

Отримати повний текст

Heuristic solution of Langmuir problem in arbitrary domain за авторством N. A. Azarenkov, A. V. Gapon, S. V. Dudin

Отримати повний текст

Heuristic solution of Langmuir problem in arbitrary domain за авторством N. A. Azarenkov, A. V. Gapon, S. V. Dudin

Отримати повний текст

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering за авторством S. V. Dudin, V. I. Farenik, A. N. Dahov, J. Walkowicz

Отримати повний текст

Comparative analysis of different plasma sources for reactive deposition of coatings and diffusion saturation of metals за авторством A. V. Sagalovich, V. V. Sagalovich, S. V. Dudin, V. I. Farenik

Отримати повний текст

Ion-plasma system for reactive magnetron deposition за авторством S. D. Yakovin, O. V. Zykov, S. V. Dudin, V. I. Farenik, M. M. Yunakov

Отримати повний текст