Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges за авторством V. Lisovskij, Zh.-P. But, K. Landri, D. Due, V. Kasan

Отримати повний текст

The film cooling of the end wall of the nozzle apparatus за авторством A. A. Khalatov, A. S. Kovalenko, A. V. Kuzmin, A. V. Lisovskij

Отримати повний текст

Rf potential determination at the driven electrode in complex technological gas discharge set-up за авторством V. Lisovskij, Zh.-P. But, K. Landri, D. Due, G. Renar, V. Kasan

Отримати повний текст