Результати пошуку - Yu. V. Kovtun
- Показ 1 - 17 результатів із 17
-
1
Energy expenditure for water molecule ionization by electron impact in weakly ionized plasma за авторством Yu. V. Kovtun
Опубліковано 2016Отримати повний текст
Стаття -
2
Energy expenditure for water molecule ionization by electron impact in weakly ionized plasma за авторством Yu. V. Kovtun
Опубліковано 2016Отримати повний текст
Стаття -
3
-
4
-
5
Experimental study of inhomogeneous reflex-discharge plasma using microwave refraction interferometry за авторством Yu. V. Kovtun, Ye. V. Siusko, Ye. I. Skibenko, A. I. Skybenko
Опубліковано 2018Отримати повний текст
Стаття -
6
Experimental study of inhomogeneous reflex-discharge plasma using microwave refraction interferometry за авторством Yu. V. Kovtun, Y. V. Siusko, E. I. Skibenko, A. I. Skibenko
Опубліковано 2018Отримати повний текст
Стаття -
7
Effect of penning ionization on the balance of charged particles in plasma of a stationary reflex discharge за авторством Yu. V. Kovtun, A. N. Ozerov, E. I. Skibenko, V. B. Yuferov
Опубліковано 2016Отримати повний текст
Стаття -
8
Effect of penning ionization on the balance of charged particles in plasma of a stationary reflex discharge за авторством Yu. V. Kovtun, A. N. Ozerov, E. I. Skibenko, V. B. Yuferov
Опубліковано 2016Отримати повний текст
Стаття -
9
Rotation of plasma layers with various densities in crossed E Ч B fields за авторством Yu. V. Kovtun, E. I. Skibenko, A. I. Skibenko, V. B. Yuferov
Опубліковано 2013Отримати повний текст
Стаття -
10
Rotation of plasma layers with various densities in crossed E Ч B fields за авторством Yu. V. Kovtun, Ye. I. Skibenko, A. I. Skybenko, V. B. Yuferov
Опубліковано 2013Отримати повний текст
Стаття -
11
Estimation of the efficiency of material injection into the reflex discharge by sputtering the cathode material за авторством Yu. V. Kovtun, E. I. Skibenko, A. I. Skibenko, V. B. Yuferov
Опубліковано 2012Отримати повний текст
Стаття -
12
Estimation of the efficiency of material injection into the reflex discharge by sputtering the cathode material за авторством Yu. V. Kovtun, Ye. I. Skibenko, A. I. Skybenko, V. B. Yuferov
Опубліковано 2012Отримати повний текст
Стаття -
13
Application of microwave ray refraction in inhomogeneous plasma interferometry за авторством A. I. Skibenko, I. B. Pinos, Yu. V. Kovtun, E. I. Skibenko, E. V. Syusko
Опубліковано 2016Отримати повний текст
Стаття -
14
Application of microwave ray refraction in inhomogeneous plasma interferometry за авторством A. I. Skibenko, I. B. Pinos, Yu. V. Kovtun, E. I. Skibenko, E. V. Syusko
Опубліковано 2016Отримати повний текст
Стаття -
15
-
16
-
17
Development of Technology for Vacuum Surface Conditioning by RF Plasma Discharge Combined with DC Discharge за авторством Yu. V. Kovtun, G. P. Glazunov, V. E. Moiseenko, S. M. Maznichenko, M. N. Bondarenko, A. L. Konotopskiy, Y. V. Siusko, I. K. Tarasov, A. N. Shapoval, A. V. Lozin
Опубліковано 2021Отримати повний текст
Стаття