Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок

Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок

Представлены результаты исследований влияния на температуру подложки параметров высокочастотного разряда в плазмохимическом реакторе «Алмаз», разработанном и изготовленном в Институте ядерных исследований. Определено время выхода на равновесную температуру подложки при различных параметрах ВЧ-разряд...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2014
Автори: Гладковский, В.В., Костин, Е.Г., Полозов, Б.П., Федорович, О.А., Петряков, В.А.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2014
Назва видання:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Теми:
Технологические процессы и оборудование
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/100464
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок / В.В. Гладковский, Е.Г. Костин, Б.П. Полозов, О.А. Федорович, В.А. Петряков // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2014. — № 5-6. — С. 39-45. — Бібліогр.: 23 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-100464
record_format dspace
spelling irk-123456789-1004642016-05-23T03:02:07Z Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок Гладковский, В.В. Костин, Е.Г. Полозов, Б.П. Федорович, О.А. Петряков, В.А. Технологические процессы и оборудование Представлены результаты исследований влияния на температуру подложки параметров высокочастотного разряда в плазмохимическом реакторе «Алмаз», разработанном и изготовленном в Институте ядерных исследований. Определено время выхода на равновесную температуру подложки при различных параметрах ВЧ-разряда и параметрах основного нагревателя. Установлено, что в условиях данного исследования при температурах подложки выше 600°С влияние ВЧ-разряда на повышение ее температуры практически отсутствует. Досліджено вплив на температуру підкладки параметрів ВЧ-розряду в плазмохімічному реакторі «Алмаз», розробленому і виготовленому в Інституті ядерних досліджень. Встановлено час виходу на рівноважне значення температури підкладки при різних параметрах ВЧ-розряду та параметрах основного нагрівача. Встановлено, що в умовах даного дослідження при температурах підкладки вище 600°С вплив ВЧ-розряду на підвищення її температури практично відсутній. The paper presents the research results on the device for obtaining diamond-like films from gas phase, constructed and tested in the Institute for Nuclear Research of the National Academy of Sciences. From the obtained results, the authors determine the time period for establishing of equilibrium substrate temperature at different HF discharge and main heater parameters. HF discharges, in the conditions of this study, at substrate temperatures above 600°C have virtually no influence on the temperature rise of the substrate. In addition, a new heater is proposed in order to increase the attainable temperature and reduce the time for establishing the equilibrium substrate temperature. 2014 Article Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок / В.В. Гладковский, Е.Г. Костин, Б.П. Полозов, О.А. Федорович, В.А. Петряков // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2014. — № 5-6. — С. 39-45. — Бібліогр.: 23 назв. — рос. 2225-5818 DOI: 10.15222/TKEA2014.5-6.39 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/100464 535.5 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
topic Технологические процессы и оборудование
Технологические процессы и оборудование
spellingShingle Технологические процессы и оборудование
Технологические процессы и оборудование
Гладковский, В.В.
Костин, Е.Г.
Полозов, Б.П.
Федорович, О.А.
Петряков, В.А.
Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Представлены результаты исследований влияния на температуру подложки параметров высокочастотного разряда в плазмохимическом реакторе «Алмаз», разработанном и изготовленном в Институте ядерных исследований. Определено время выхода на равновесную температуру подложки при различных параметрах ВЧ-разряда и параметрах основного нагревателя. Установлено, что в условиях данного исследования при температурах подложки выше 600°С влияние ВЧ-разряда на повышение ее температуры практически отсутствует.
format Article
author Гладковский, В.В.
Костин, Е.Г.
Полозов, Б.П.
Федорович, О.А.
Петряков, В.А.
author_facet Гладковский, В.В.
Костин, Е.Г.
Полозов, Б.П.
Федорович, О.А.
Петряков, В.А.
author_sort Гладковский, В.В.
title Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
title_short Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
title_full Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
title_fullStr Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
title_full_unstemmed Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
title_sort влияние параметров вч-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
publishDate 2014
topic_facet Технологические процессы и оборудование
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/100464
citation_txt Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок / В.В. Гладковский, Е.Г. Костин, Б.П. Полозов, О.А. Федорович, В.А. Петряков // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2014. — № 5-6. — С. 39-45. — Бібліогр.: 23 назв. — рос.
series Технология и конструирование в электронной аппаратуре
work_keys_str_mv AT gladkovskijvv vliânieparametrovvčrazrâdaiparametrovnagrevatelânatemperaturupodložkivplazmohimičeskomreaktorealmazdlâsintezauglerodnyhalmazopodobnyhplenok
AT kostineg vliânieparametrovvčrazrâdaiparametrovnagrevatelânatemperaturupodložkivplazmohimičeskomreaktorealmazdlâsintezauglerodnyhalmazopodobnyhplenok
AT polozovbp vliânieparametrovvčrazrâdaiparametrovnagrevatelânatemperaturupodložkivplazmohimičeskomreaktorealmazdlâsintezauglerodnyhalmazopodobnyhplenok
AT fedorovičoa vliânieparametrovvčrazrâdaiparametrovnagrevatelânatemperaturupodložkivplazmohimičeskomreaktorealmazdlâsintezauglerodnyhalmazopodobnyhplenok
AT petrâkovva vliânieparametrovvčrazrâdaiparametrovnagrevatelânatemperaturupodložkivplazmohimičeskomreaktorealmazdlâsintezauglerodnyhalmazopodobnyhplenok
first_indexed 2024-03-30T08:49:53Z
last_indexed 2024-03-30T08:49:53Z
_version_ 1796148673323728896

Схожі ресурси