Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition

This article present‘s researching results of ion implantation Ta in Cu monocrystal with different plane. Also the article demonstrates the processes of ion mixing and deposition of ions Ta+ and Cu+ on polycrystalline Al substrate. Effect of crystalline plane line was found. At the same implantati...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2013
Автори: Lisovenko, M.A., Belovol, K.O., Kyrychenko, O.V., Shablya, V.T., Kassi, J., Gritsenko, B.P., Burkovska, V.V.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2013
Назва видання:Физическая инженерия поверхности
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/100596
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition / M.A. Lisovenko, K.O. Belovol, O.V. Kyrychenko, V.T. Shablya, J. Kassi, B.P. Gritsenko, V.V. Burkovska // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 4. — С. 406–411. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-100596
record_format dspace
spelling irk-123456789-1005962016-05-25T03:02:08Z Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition Lisovenko, M.A. Belovol, K.O. Kyrychenko, O.V. Shablya, V.T. Kassi, J. Gritsenko, B.P. Burkovska, V.V. This article present‘s researching results of ion implantation Ta in Cu monocrystal with different plane. Also the article demonstrates the processes of ion mixing and deposition of ions Ta+ and Cu+ on polycrystalline Al substrate. Effect of crystalline plane line was found. At the same implantation dose the dose at surface layer is different. Possibilities of the simultaneous ion implantation Ta and Cu and deposition on Al substrate are showed. It causes good corrosion resistance, microhardness increasing of the surface layers. Встатье представленырезультаты исследований процессов ионной имплантации Ta в монокриcталле Cu с различной плоскостью. А также процессы ионного перемешивания и осаждения ионов Ta+ и Cu+ на подложку c поликристаллического Al. Обнаружено влияние направления кристаллической плоскости и то, что при одинаковой дозе имплантации в поверхностном слое внедренная доза разная. Показаны возможности одновременной имплантации ионов Ta и Cu и осаждения на подложку из Al, что приводит к хорошей коррозионной стойкости, увеличению микротвердости поверхностных слоев. У статті представлені результати дослідження процесів іонної імплантації Ta у монокристали Cu з різними площинами. А також процеси іонного змішування і осадження іонів Ta+ і Cu+ на підкладинку з полікристалічного Al. Виявлено вплив напряму кристалічної площини і те, що при однаковій дозі імплантації в поверхневому шарі імплантована доза різна. Показані можливості одночасної імплантації іонів Ta та Cu і осадження на підкладинку з Al, що сприяє хорошій корозійній стійкості та підвищенню мікротвердості поверхневих шарів. 2013 Article Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition / M.A. Lisovenko, K.O. Belovol, O.V. Kyrychenko, V.T. Shablya, J. Kassi, B.P. Gritsenko, V.V. Burkovska // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 4. — С. 406–411. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/100596 539.121.8.04 en Физическая инженерия поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
description This article present‘s researching results of ion implantation Ta in Cu monocrystal with different plane. Also the article demonstrates the processes of ion mixing and deposition of ions Ta+ and Cu+ on polycrystalline Al substrate. Effect of crystalline plane line was found. At the same implantation dose the dose at surface layer is different. Possibilities of the simultaneous ion implantation Ta and Cu and deposition on Al substrate are showed. It causes good corrosion resistance, microhardness increasing of the surface layers.
format Article
author Lisovenko, M.A.
Belovol, K.O.
Kyrychenko, O.V.
Shablya, V.T.
Kassi, J.
Gritsenko, B.P.
Burkovska, V.V.
spellingShingle Lisovenko, M.A.
Belovol, K.O.
Kyrychenko, O.V.
Shablya, V.T.
Kassi, J.
Gritsenko, B.P.
Burkovska, V.V.
Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition
Физическая инженерия поверхности
author_facet Lisovenko, M.A.
Belovol, K.O.
Kyrychenko, O.V.
Shablya, V.T.
Kassi, J.
Gritsenko, B.P.
Burkovska, V.V.
author_sort Lisovenko, M.A.
title Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition
title_short Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition
title_full Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition
title_fullStr Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition
title_full_unstemmed Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition
title_sort ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
publishDate 2013
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/100596
citation_txt Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition / M.A. Lisovenko, K.O. Belovol, O.V. Kyrychenko, V.T. Shablya, J. Kassi, B.P. Gritsenko, V.V. Burkovska // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 4. — С. 406–411. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.
series Физическая инженерия поверхности
work_keys_str_mv AT lisovenkoma ionimplantationionbeammixingduringsimultaneousionimplantationandmetaldeposition
AT belovolko ionimplantationionbeammixingduringsimultaneousionimplantationandmetaldeposition
AT kyrychenkoov ionimplantationionbeammixingduringsimultaneousionimplantationandmetaldeposition
AT shablyavt ionimplantationionbeammixingduringsimultaneousionimplantationandmetaldeposition
AT kassij ionimplantationionbeammixingduringsimultaneousionimplantationandmetaldeposition
AT gritsenkobp ionimplantationionbeammixingduringsimultaneousionimplantationandmetaldeposition
AT burkovskavv ionimplantationionbeammixingduringsimultaneousionimplantationandmetaldeposition
first_indexed 2024-03-30T08:50:33Z
last_indexed 2024-03-30T08:50:33Z
_version_ 1796148687009742848