Иссдедование процессов формирования TiSiN покрытий путём распыления мишений из Ti и Si ионами, генерируемыми источником газовой плазмы
Отработана методика легирования TiN покрытий путём одновременного распыления мишеней из Ti и Si ионами азота и аргона, генерируемыми источником газовой плазмы (ИГП). Наибольшее значение твёрдости (∼33 ГПа) достигалось при СSi ∼ 7 вес %. За счёт образования на поверхности Ti и Si стойких к распылен...
Збережено в:
Видавець: | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
---|---|
Дата: | 2013 |
Автори: | Белоус, В.А., Лунёв, В.М., Носов, Г.И., Куприн, А.С., Толмачёва, Г.Н., Колодий, И.В. |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2013
|
Назва видання: | Физическая инженерия поверхности |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/100597 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Цитувати: | Иссдедование процессов формирования TiSiN покрытий путём распыления мишений из Ti и Si ионами, генерируемыми источником газовой плазмы / В.А. Белоус, В.М. Лунёв, Г.И. Носов, А.С. Куприн, Г.Н. Толмачёва, И.В. Колодий // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 4. — С. 412–419. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. |
Репозиторії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Isdesending processes for the formation of TiSiN coatings by spraying nitrogen from Ti and Si ions generated by a gas plasma source
за авторством: V. A. Belous, та інші
Опубліковано: (2013) -
Физические механизмы распыления мишеней из SiO₂ ускоренными ионами фуллерена C₆₀
за авторством: Малеев, М.В., та інші
Опубліковано: (2015) -
The influence of the bias potential and working gas pressure on the properties of the ion-plasma multilayer coating TiSiN/NbN
за авторством: D. V. Horokh, та інші
Опубліковано: (2022) -
Methods of Ti-Si and Ti-Si-X systems alloys melting
за авторством: N. N. Kuzmenko, та інші
Опубліковано: (2011) -
Способы выплавки сплавов систем Ti-Si и Ti-Si-X
за авторством: Кузьменко, Н.Н., та інші
Опубліковано: (2011)