Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO
Изучено влияние температуры подложки, состава рабочего газа и режимов DC и MF реактивного магнетронного распыления сплава 90%In + 10%Sn на структурное состояние, электрическое сопротивление, прозрачность и ширину запрещенной зоны пленок ITO, осажденных на стеклянные подложки. Установленная зависимос...
Збережено в:
| Дата: | 2012 |
|---|---|
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2012
|
| Назва видання: | Физическая инженерия поверхности |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/101869 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO / А.И. Бажин, А.Н. Троцан, С.В. Чертопалов, А.А. Стипаненко, В.А. Ступак // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 342-349. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-101869 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-1018692016-06-09T03:02:22Z Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO Бажин, А.И. Троцан, А.Н. Чертопалов, С.В. Стипаненко, А.А. Ступак, В.А. Изучено влияние температуры подложки, состава рабочего газа и режимов DC и MF реактивного магнетронного распыления сплава 90%In + 10%Sn на структурное состояние, электрическое сопротивление, прозрачность и ширину запрещенной зоны пленок ITO, осажденных на стеклянные подложки. Установленная зависимость электронно-оптических свойств пленок ITO от условий их получения поясняется влиянием степени релаксации внутренних напряжений и кристалличности. Вивчено вплив температури підкладки, складу робочого газу і режимів DC і MF реактивного магнетронного розпилення сплаву 90%In + 10%Sn на структурний стан, електричний опір, прозорість і ширину забороненої зони плівок ITO, осаджених на скляні підкладки. Встановлена залежність електронно-оптичних властивостей плівок ITO від умов їх отримання пояснюється впливом ступеню релаксації внутрішніх напруг і кристалічності. The influence of substrate temperature, composition of the working gas and DC and MF modes of reactive magnetron sputtering of an alloy 90%In + 10%Sn on the structural state, electrical resistance, transparency, and the band gap of the films ITO, deposited on glass substrates have been studied. The dependence of electron-optical properties of ITO films on the conditions of their production explains by the influence of the relaxation of internal stresses and crystallinity. 2012 Article Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO / А.И. Бажин, А.Н. Троцан, С.В. Чертопалов, А.А. Стипаненко, В.А. Ступак // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 342-349. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/101869 539.2: 538.975 ru Физическая инженерия поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
Russian |
| description |
Изучено влияние температуры подложки, состава рабочего газа и режимов DC и MF реактивного магнетронного распыления сплава 90%In + 10%Sn на структурное состояние, электрическое сопротивление, прозрачность и ширину запрещенной зоны пленок ITO, осажденных на стеклянные подложки. Установленная зависимость электронно-оптических свойств пленок ITO от условий их получения поясняется влиянием степени релаксации внутренних напряжений и кристалличности. |
| format |
Article |
| author |
Бажин, А.И. Троцан, А.Н. Чертопалов, С.В. Стипаненко, А.А. Ступак, В.А. |
| spellingShingle |
Бажин, А.И. Троцан, А.Н. Чертопалов, С.В. Стипаненко, А.А. Ступак, В.А. Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO Физическая инженерия поверхности |
| author_facet |
Бажин, А.И. Троцан, А.Н. Чертопалов, С.В. Стипаненко, А.А. Ступак, В.А. |
| author_sort |
Бажин, А.И. |
| title |
Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO |
| title_short |
Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO |
| title_full |
Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO |
| title_fullStr |
Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO |
| title_full_unstemmed |
Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO |
| title_sort |
влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ito |
| publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| publishDate |
2012 |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/101869 |
| citation_txt |
Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO / А.И. Бажин, А.Н. Троцан, С.В. Чертопалов, А.А. Стипаненко, В.А. Ступак // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 4. — С. 342-349. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. |
| series |
Физическая инженерия поверхности |
| work_keys_str_mv |
AT bažinai vliânierežimamagnetronnogoraspyleniâisostavareakcionnogogazanastrukturuisvojstvaplenokito AT trocanan vliânierežimamagnetronnogoraspyleniâisostavareakcionnogogazanastrukturuisvojstvaplenokito AT čertopalovsv vliânierežimamagnetronnogoraspyleniâisostavareakcionnogogazanastrukturuisvojstvaplenokito AT stipanenkoaa vliânierežimamagnetronnogoraspyleniâisostavareakcionnogogazanastrukturuisvojstvaplenokito AT stupakva vliânierežimamagnetronnogoraspyleniâisostavareakcionnogogazanastrukturuisvojstvaplenokito |
| first_indexed |
2024-03-30T08:56:08Z |
| last_indexed |
2024-03-30T08:56:08Z |
| _version_ |
1796148815555723264 |