Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si

Исследована структура и фазовый состав многослойных периодических композиций C/Si при помощи малоугловой рентгеновской дифракции, просвечивающей электронной микроскопии и Рамановской спектроскопии при температурах 50—1050 °C. В исходном состоянии композиция C/Si представляет собой аморфные слои угле...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2014
Автори: Журавель, И.А., Бугаев, Е.А., Пеньков, А.В, Зубарев, Е.Н., Севрюкова, В.А., Кондратенко, В.В.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2014
Назва видання:Физическая инженерия поверхности
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/102617
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si / И.А. Журавель, Е.А. Бугаев, А.В. Пеньков, Е.Н. Зубарев, В.А. Севрюкова, В.В. Кондратенко // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 1. — С. 20-30. — Бібліогр.: 27 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-102617
record_format dspace
spelling irk-123456789-1026172016-06-13T03:04:02Z Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si Журавель, И.А. Бугаев, Е.А. Пеньков, А.В Зубарев, Е.Н. Севрюкова, В.А. Кондратенко, В.В. Исследована структура и фазовый состав многослойных периодических композиций C/Si при помощи малоугловой рентгеновской дифракции, просвечивающей электронной микроскопии и Рамановской спектроскопии при температурах 50—1050 °C. В исходном состоянии композиция C/Si представляет собой аморфные слои углерода и кремния, разделенные аморфными перемешанными зонами различной плотности. С ростом температуры происходит изменение периода композиции вследствие роста зон и графитизации углерода. При 700 °C начинается кристаллизация кремния. При 800 °C на основе кристаллического кремния формируется кристаллический SiC кубической модификации. При 900—1000 °C происходит разрушение периодической структуры композиции. Досліджено структуру та фазовий склад багатошарових періодичних композицій C/Si за допомогою малокутової рентгенівської дифракції, просвічувальної електронної мікроскопії та Раманівської спектроскопії при температурах 50—1050 °C. У початковому стані композиція C/Si є аморфними шарами вуглеця та кремнію, розділеними аморфними змішаними зонами різної густини. Зі зростанням температури відбувається змінення періоду композиції внаслідок зростання зон та графітизації вуглецю. При 700 °C починається кристалізація кремнію. При 800 °C на основі кристалічного кремнію формується кристалічний SiC кубічної модифікації. При 900—1000 °C відбувається руйнування періодичної структури композиції. Structure and composition of C/Si periodical multilayers were investigated by means of low-angle X-ray diffraction, transmission electron microscopy and Raman spectroscopy at temperatures within 50—1050 °C range. In as-deposited state C/Si multilayer presents amorphous carbon and silicon layers divided by amorphous intermixing layers of different density. As the temperature increases, multilayer period changes as a result of increase of intermixing layers and carbon graphitization. At 700 °C silicon crystallization begins. At 800 °C crystalline SiC of cubic modification forms on basis of crystalline silicon. At 900—1000 °C destruction of multilayer periodical structure takes place. 2014 Article Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si / И.А. Журавель, Е.А. Бугаев, А.В. Пеньков, Е.Н. Зубарев, В.А. Севрюкова, В.В. Кондратенко // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 1. — С. 20-30. — Бібліогр.: 27 назв. — рос. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/102617 536.248.1; 539.26; 538.971 ru Физическая инженерия поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
description Исследована структура и фазовый состав многослойных периодических композиций C/Si при помощи малоугловой рентгеновской дифракции, просвечивающей электронной микроскопии и Рамановской спектроскопии при температурах 50—1050 °C. В исходном состоянии композиция C/Si представляет собой аморфные слои углерода и кремния, разделенные аморфными перемешанными зонами различной плотности. С ростом температуры происходит изменение периода композиции вследствие роста зон и графитизации углерода. При 700 °C начинается кристаллизация кремния. При 800 °C на основе кристаллического кремния формируется кристаллический SiC кубической модификации. При 900—1000 °C происходит разрушение периодической структуры композиции.
format Article
author Журавель, И.А.
Бугаев, Е.А.
Пеньков, А.В
Зубарев, Е.Н.
Севрюкова, В.А.
Кондратенко, В.В.
spellingShingle Журавель, И.А.
Бугаев, Е.А.
Пеньков, А.В
Зубарев, Е.Н.
Севрюкова, В.А.
Кондратенко, В.В.
Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si
Физическая инженерия поверхности
author_facet Журавель, И.А.
Бугаев, Е.А.
Пеньков, А.В
Зубарев, Е.Н.
Севрюкова, В.А.
Кондратенко, В.В.
author_sort Журавель, И.А.
title Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si
title_short Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si
title_full Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si
title_fullStr Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si
title_full_unstemmed Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si
title_sort эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций c/si
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
publishDate 2014
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/102617
citation_txt Эволюция структуры и механизм термического разрушения многослойных композиций C/Si / И.А. Журавель, Е.А. Бугаев, А.В. Пеньков, Е.Н. Зубарев, В.А. Севрюкова, В.В. Кондратенко // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 1. — С. 20-30. — Бібліогр.: 27 назв. — рос.
series Физическая инженерия поверхности
work_keys_str_mv AT žuravelʹia évolûciâstrukturyimehanizmtermičeskogorazrušeniâmnogoslojnyhkompozicijcsi
AT bugaevea évolûciâstrukturyimehanizmtermičeskogorazrušeniâmnogoslojnyhkompozicijcsi
AT penʹkovav évolûciâstrukturyimehanizmtermičeskogorazrušeniâmnogoslojnyhkompozicijcsi
AT zubareven évolûciâstrukturyimehanizmtermičeskogorazrušeniâmnogoslojnyhkompozicijcsi
AT sevrûkovava évolûciâstrukturyimehanizmtermičeskogorazrušeniâmnogoslojnyhkompozicijcsi
AT kondratenkovv évolûciâstrukturyimehanizmtermičeskogorazrušeniâmnogoslojnyhkompozicijcsi
first_indexed 2023-10-18T20:05:25Z
last_indexed 2023-10-18T20:05:25Z
_version_ 1796148899306536960