Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике

В работе исследовано реологическое поведение композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния, которые могут быть использованы на II-й стадии полировки пластин монокристаллического кремния и других полупроводниковых материалов. Приводятся физически обоснова...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Datum:	2014
Hauptverfasser:	Косенок, Я.А., Гайшун, В.Е., Тюленкова, О.И., Туров, В.В., Савицкий, Д.П.
Format:	Artikel
Sprache:	Russian
Veröffentlicht:	Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2014
Schriftenreihe:	Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Online Zugang:	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/107163
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике / Я.А. Косенок, В.Е. Гайшун, О.И. Тюленкова, В.В. Туров, Д.П. Савицкий // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 2. — С. 269–277. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

id	irk-123456789-107163
record_format	dspace
spelling	irk-123456789-1071632016-10-15T03:01:46Z Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике Косенок, Я.А. Гайшун, В.Е. Тюленкова, О.И. Туров, В.В. Савицкий, Д.П. В работе исследовано реологическое поведение композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния, которые могут быть использованы на II-й стадии полировки пластин монокристаллического кремния и других полупроводниковых материалов. Приводятся физически обоснованные формулы для описания эффективной вязкости в зависимости от степени равновесного разрушения и тиксотропного восстановления связей структуры в процессе течения композиционной суспензии. Формулы сравниваются с результатами, полученными экспериментальным путём. Приводятся данные о режимах полировки и качестве поверхности пластин монокристаллического кремния после полировки с использованием композиционной суспензии. У роботі досліджено поведінку реології композиційних суспензій на основі силікатного золю і нанорозмірних частинок діоксиду кремнію, які можуть бути використані на II-й стадії полірування пластин монокристалічного кремнію та інших напівпровідникових матеріялів. Наведено фізично обґрунтовані формули для опису ефективної в’язкости залежно від ступеня рівноважного руйнування і тиксотропного відновлення зв’язків структури в процесі плину композиційної суспензії. Формули порівнюються з результатами , одержаними експериментальним шляхом. Наведено дані про режими полірування та якість поверхні пластин монокристалічного кремнію після полірування з використанням композиційної суспензії. The rheological behaviour of the composite suspensions based on silica sol and silica nanoparticles, which can be used at the II-nd stage of polishing of mono-crystalline silicon wafers or other semiconductor materials, is investigated. Physically based formulas are presented to describe the effective viscosity depending on degree of balanced destruction and thixotropic reduction of bonds of structure in the process of flow of composite suspension. The resulting formulas are compared with the experimental data. The data on both the regimes of polishing and surface quality of monocrystalline silicon wafers after polishing using the composite suspension are presented. 2014 Article Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике / Я.А. Косенок, В.Е. Гайшун, О.И. Тюленкова, В.В. Туров, Д.П. Савицкий // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 2. — С. 269–277. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. 1816-5230 PACS numbers: 66.20.Ej, 81.16.Dn, 81.65.Ps, 82.70.Kj, 83.50.Uv, 83.60.Pq, 83.80.Hj http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/107163 ru Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
institution	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection	DSpace DC
language	Russian
description	В работе исследовано реологическое поведение композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния, которые могут быть использованы на II-й стадии полировки пластин монокристаллического кремния и других полупроводниковых материалов. Приводятся физически обоснованные формулы для описания эффективной вязкости в зависимости от степени равновесного разрушения и тиксотропного восстановления связей структуры в процессе течения композиционной суспензии. Формулы сравниваются с результатами, полученными экспериментальным путём. Приводятся данные о режимах полировки и качестве поверхности пластин монокристаллического кремния после полировки с использованием композиционной суспензии.
format	Article
author	Косенок, Я.А. Гайшун, В.Е. Тюленкова, О.И. Туров, В.В. Савицкий, Д.П.
spellingShingle	Косенок, Я.А. Гайшун, В.Е. Тюленкова, О.И. Туров, В.В. Савицкий, Д.П. Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
author_facet	Косенок, Я.А. Гайшун, В.Е. Тюленкова, О.И. Туров, В.В. Савицкий, Д.П.
author_sort	Косенок, Я.А.
title	Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике
title_short	Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике
title_full	Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике
title_fullStr	Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике
title_full_unstemmed	Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике
title_sort	реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике
publisher	Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
publishDate	2014
url	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/107163
citation_txt	Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике / Я.А. Косенок, В.Е. Гайшун, О.И. Тюленкова, В.В. Туров, Д.П. Савицкий // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 2. — С. 269–277. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
series	Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
work_keys_str_mv	AT kosenokâa reologičeskiesvojstvakompozicionnyhsuspenzijnaosnovesilikatnogozolâinanorazmernyhčasticdioksidakremniâdlâprimeneniâvélektronike AT gajšunve reologičeskiesvojstvakompozicionnyhsuspenzijnaosnovesilikatnogozolâinanorazmernyhčasticdioksidakremniâdlâprimeneniâvélektronike AT tûlenkovaoi reologičeskiesvojstvakompozicionnyhsuspenzijnaosnovesilikatnogozolâinanorazmernyhčasticdioksidakremniâdlâprimeneniâvélektronike AT turovvv reologičeskiesvojstvakompozicionnyhsuspenzijnaosnovesilikatnogozolâinanorazmernyhčasticdioksidakremniâdlâprimeneniâvélektronike AT savickijdp reologičeskiesvojstvakompozicionnyhsuspenzijnaosnovesilikatnogozolâinanorazmernyhčasticdioksidakremniâdlâprimeneniâvélektronike
first_indexed	2025-07-07T19:34:51Z
last_indexed	2025-07-07T19:34:51Z
_version_	1837018007413456896
fulltext	269 PACS numbers: 66.20.Ej, 81.16.Dn, 81.65.Ps, 82.70.Kj, 83.50.Uv, 83.60.Pq, 83.80.Hj Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике Я. А. Косенок, В. Е. Гайшун, О. И. Тюленкова, В. В. Туров, Д. П. Савицкий* УО «Гомельский государственный университет им. Ф. Скорины», ул. Советская, 104, 246019 Гомель, Беларусь Институт химии поверхности им. А. А. Чуйко НАН Украины, ул. Генерала Наумова, 17, 03164 Киев, Украина *Институт коллоидной химии и химии воды им. А. В. Думанского НАН Украины, бульв. Акад. Вернадского, 42, 03680, ГСП, Киев-142, Украина В работе исследовано реологическое поведение композиционных суспен- зий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида крем- ния, которые могут быть использованы на II-й стадии полировки пластин монокристаллического кремния и других полупроводниковых материа- лов. Приводятся физически обоснованные формулы для описания эффек- тивной вязкости в зависимости от степени равновесного разрушения и тиксотропного восстановления связей структуры в процессе течения ком- позиционной суспензии. Формулы сравниваются с результатами, полу- ченными экспериментальным путём. Приводятся данные о режимах по- лировки и качестве поверхности пластин монокристаллического кремния после полировки с использованием композиционной суспензии. У роботі досліджено поведінку реології композиційних суспензій на основі силікатного золю і нанорозмірних частинок діоксиду кремнію, які можуть бути використані на II-й стадії полірування пластин монокристалічного кремнію та інших напівпровідникових матеріялів. Наведено фізично об- ґрунтовані формули для опису ефективної в’язкости залежно від ступеня рівноважного руйнування і тиксотропного відновлення зв’язків структури в процесі плину композиційної суспензії. Формули порівнюються з ре- зультатами , одержаними експериментальним шляхом. Наведено дані про режими полірування та якість поверхні пластин монокристалічного крем- нію після полірування з використанням композиційної суспензії. Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології Nanosystems, Nanomaterials, Nanotechnologies 2014, т. 12, № 2, сс. 269–277  2014 ІÌФ (Інститут металофізики ім. Г. В. Курдюмова НАН України) Надруковано в Україні. Фотокопіювання дозволено тільки відповідно до ліцензії 270 Я. А. КОСЕНОК, В. Е. ГАЙШУН, О. И. ТЮЛЕНКОВА и др. The rheological behaviour of the composite suspensions based on silica sol and silica nanoparticles, which can be used at the II-nd stage of polishing of mono- crystalline silicon wafers or other semiconductor materials, is investigated. Physically based formulas are presented to describe the effective viscosity depending on degree of balanced destruction and thixotropic reduction of bonds of structure in the process of flow of composite suspension. The result- ing formulas are compared with the experimental data. The data on both the regimes of polishing and surface quality of monocrystalline silicon wafers af- ter polishing using the composite suspension are presented. Ключевые слова: суспензия, тиксотропия, аэросил, ионообменная техно- логия, эффективная вязкость. (Получено 21 ноября 2013 г.) 1. ВВЕДЕНИЕ В планарной технологии все элементы полупроводниковых прибо- ров создаются в приповерхностной области подложки, поэтому ка- чество и состояние поверхности пластины имеют большое значение. Полировка является последней операцией в процессе обработки подложек, применяемых в микро- и наноэлектронике. В работе [1] отмечается, что при толщине формируемого диэлектрического слоя SiO2 менее 10 нм существует зависимость качества этого слоя от микронеровностей (шероховатости) поверхности полупроводнико- вых пластин, что напрямую влияет на стабильность работы транзи- сторных структур. Полировка достаточно сложная операция, кото- рая часто является и наиболее дорогостоящей в производственном процессе. Полировка полупроводниковых пластин на предприяти- ях электронной промышленности осуществляется с использовани- ем коммерческих дисперсий на основе SiO2, производящихся за ру- бежом такими компаниями как Degussa и Wacker (Германия), а также Nalko (США). В Республике Беларусь и других странах СНГ полирующие суспензии, содержащие наноразмерные частицы ди- оксида кремния, не производятся в промышленных объёмах, по- этому на их цену существенное влияние оказывают накладные рас- ходы, связанные с их транспортировкой. Необходимость получения поверхности с заданными параметра- ми шероховатости и воспроизводимостью результата — основное требование для получения полированной поверхности. Анализ изображений полированных поверхностей, полученных с помощью атомно-силового микроскопа (АСÌ) и приведённых в ра- боте [2] показывает, что полирование с помощью суспензий, содер- жащих наноразмерные частицы, протекает с образованием наноца- рапин, ширина которых наряду с шероховатостью коррелирует с размером частиц. Однако ширина царапин значительно больше СВОЙСТВА СУСПЕНЗИЙ СИЛИКАТНОГО ЗОЛЯ И НАНОЧАСТИЦ SiO2 271 размера частиц; следовательно, рельеф поверхности формируется под воздействием, как первичных частиц, так и их агрегатов. Соот- ношение участия этих двух факторов отличается для разных мате- риалов и составов полирующих композиций [2]. Особенности пове- дения первичных частиц и их агрегатов в жидкой среде, от которых зависит качество поверхности и выбор оптимальных параметров процесса полировки, могут быть определены исследованием реоло- гических кривых течения полирующих композиций. 2. МЕТОДИКА ЭКСПЕРИМЕНТА В настоящее время существует несколько методов синтеза золей диоксида кремния, которые могут быть использованы в качестве полирующих агентов. Среди них ионообменная технология, осно- ванная на использовании имеющих низкую стоимость растворов силиката натрия (метод Бёрда). По этой технологии получают кон- центрированные дисперсии диоксида кремния с частицами сфери- ческой формы и радиусом от 3 нм до 20 нм и выше, практически монодисперсные с отклонением от среднего радиуса частиц в не- сколько процентов (рис. 1). Другим перспективным методом полу- чения дисперсий SiO2 является метод диспергирования пирогенно- го наноразмерного диоксида кремния (аэросила) в жидкой среде. Этот метод позволяет получать дисперсии различного состава с со- Рис. 1. АСÌ-изображение силикатного золя, полученного по ионообмен- ной технологии. 272 Я. А. КОСЕНОК, В. Е. ГАЙШУН, О. И. ТЮЛЕНКОВА и др. держанием твёрдой фазы до 50 масс.% без содержания посторонних примесей. Ìы предлагаем комбинированный метод, сочетающий получение золей по ионообменной технологии и последующее дис- пергирование аэросила в полученной среде [3]. Золи, полученные по ионообменной технологии, значительно дешевле коллоидных дисперсий на основе аэросилов и состоят из однородных по размеру частиц диоксида кремния, несущих на по- верхности электростатический заряд после введения стабилизато- ров (рис. 1). Увеличение концентрации SiO2 достигается путём до- бавления в золь аэросила марки ОХ-50 (Degussa, Германия) с ми- нимальной удельной поверхностью (SБЭТ50 м 2/г) и слабой агреги- рованностью первичных частиц. Для исследований были приготовлены композиционные суспен- зии с концентрацией твёрдой фазы 25 масс.%. Аэросил ОХ-50 в жидкой среде может образовывать стабильные суспензии, дисперс- ная фаза которых состоит преимущественно из индивидуальных первичных частиц (d40 нм). В качестве стабилизатора использо- валась гидроокись натрия («осч.»). Процессы агрегатообразования в композиционных суспензиях изучали методом ротационной вис- козиметрии с помощью вискозиметра REOTEST 2.1 при использо- вании термостатированной цилиндрической измерительной систе- мы в диапазоне скоростей сдвига от 48,6 до 1312 с 1. Измерения вы- полняли при 20С. Исследование топографии поверхности пластин монокристаллического кремния после химико-механической по- лировки композиционными суспензиями выполнялось на высоко- разрешающем атомно-силовом микроскопе SOLVER P 47-PRO (фирмы «NT–MDT», Россия). 3. РЕЗУЛЬТАТЫ И ИХ ОБСУЖДЕНИЕ Характер взаимодействия частиц кремнезёма между собой при формировании агрегатов, агломератов и гелеобразных структур (сплошного кластера) является одним из основных процессов, про- текающих в водных дисперсиях. Эти взаимодействия часто проис- ходят в многокомпонентных системах, содержащих кроме воды, ионы солей или оснований, добавляемых с целью повышения ста- бильности суспензии. Специфическое свойство коагуляционных структур — тиксотропия — обратимый изотермический переход структурированной системы в бесструктурную или слабострукту- рированную при механических воздействиях, т.е. способность вос- станавливать свою структуру во времени после её механического разрушения в результате броуновского движения [4]. Такое разру- шение и восстановление связей структуры может происходить не только в случае покоящейся системы, но и при её течении. Явление тиксотропии играет существенную роль при использо- СВОЙСТВА СУСПЕНЗИЙ СИЛИКАТНОГО ЗОЛЯ И НАНОЧАСТИЦ SiO2 273 вании композиционных суспензий для полировки пластин моно- кристаллического кремния. В процессе полировки суспензия под- вергается сдвигу в зазоре между вращающимися пластинами и по- лировальником. Если скорость восстановления структуры будет большей, чем скорость разрушения, это может привести к ухудше- нию качества поверхности, т.е. поверхность полируется не полно- стью, возникают дефекты, такие как риски и травление. Поэтому одним из наиболее распространённых методов непосредственного использования реологических кривых течения является выбор оп- тимальных параметров различных технологических процессов. Для исследований нами была построена полная реологическая кривая приготовленной композиционной суспензии (рис. 2). На ри- сунке 2 видно, что кривая течения имеет S-образную форму. В [5] предложена приближенная теория течения тиксотропной структу- рированной системы. Авторы, анализируя известные эксперимен- тальные данные по течению структурированных жидкостей, пред- Рис. 2. Полная реологическая кривая течения композиционной суспен- зии, построенная на основе экспериментальных данных; СSiO2 25 масс.% 274 Я. А. КОСЕНОК, В. Е. ГАЙШУН, О. И. ТЮЛЕНКОВА и др. положили, что S-образная часть кривых течения объясняется тик- сотропным восстановлением структуры в процессе течения. Для математического описания S-образной части кривой течения, запи- санной в виде Dr(), где () 1 — эффективная подвижность, являющаяся неизвестной функцией напряжения , было предло- жено несколько формул. Ì. Рейнером [6] было дано следующее определение вида функции (): 0 2 a d d        , (1) где а — структурная устойчивость, а  определяется из условия  при а0. Путём математических преобразований, как показано в [5], фор- мулу (1) можно записать в виде:              2 0 Dr ( )exp( )a , (2) где величины 0 и  оказываются неопределёнными, а величину a рекомендуется рассматривать как некоторую функцию от  2. Вместе с тем, представление градиента скорости течения в виде (2) являет- ся интересным в связи с тем, что эта функция имеет точку перегиба и может быть использована для описания S-образной части кривой течения. Чтобы не записывать функцию () непосредственно через параметры структуры, которые обычно неизвестны, допускается существование постоянной подвижности, а расчёт переменной по- движности ведётся относительно этих постоянных подвижностей. В [5] найден математический способ описания тиксотропной ча- сти кривой течения и выражение её через параметры на основе учё- та броуновского движения:         0 0 Dr ( ) . m X (3) На интервалах (0; 0) и (m; Т) кривая весьма близка к прямой (рис. 2); Т — граница течения; X — условная степень равновесного разрушения структуры в стационарном потоке при заданном Dr(), а Y1X — равновесная степень тиксотропного восстановления в данном потоке: 2 2 2 2 2 2 1 exp 1,5 1 exp 1,5 r i m r i X                      , (4) СВОЙСТВА СУСПЕНЗИЙ СИЛИКАТНОГО ЗОЛЯ И НАНОЧАСТИЦ SiO2 275 где X(r)0, X(m)1. Таким образом, уравнение кривой эффективной вязкости струк- турированной дисперсии с учётом тиксотропии можно записать в виде:                            0 0 0 , при 0 , при ( ) , при ; ; . r m r m m m m m T h X h (5) Формулы (4) и (5) были применены для расчёта теоретической реологической кривой течения композиционной суспензии, ис- пользуемой для полировки полупроводниковых пластин кремния. На основе экспериментальных данных ранее уже была построена полная реологическая кривая течения композиционной суспензии. В таблице сравниваются расчётные значения градиента скорости течения композиционной суспензии с экспериментальными дан- ными. Из таблицы видно, что отклонение расчётных данных от экспериментальных находится в пределах погрешности измерений. На рисунке 3 изображена кривая, построенная по данным формулы (5), и указаны экспериментальные значения. Таким образом, фор- мулы (4) и (5) могут быть рекомендованы для расчёта кривых тече- ния тиксотропных полирующих суспензий. Композиционная суспензия была опробована на II стадии хими- ко-механического полирования пластин монокристаллического кремния марок 100 КДБ10 (111) и 100 КЭФ 4,5 (100). При стан- дартных режимах обработки наблюдалось выравнивание рельефа с образованием зеркальной, гладкой поверхности без сколов и тре- щин. Время полировки составило 10–12 минут при давлении (5,88– ТАБЛИЦА. Сравнение экспериментальных данных с расчётными (вычис- ленными по формуле (1)) для композиционной суспензии. Экспериментальные значения Расчётные значения , Па , мПас Х Y , мПас 0,4965 18,389 0 1 18,389 0,8937 18,399 0 1 18,390 1,4903 18,399 0 1 18,390 2,648 18,162 0,036 0,964 18,347 4,303 17,708 0,117 0,883 17,973 7,1165 16,270 0,313 0,687 17,012 11,254 15,438 0,641 0,359 15,881 19,198 14,633 1 0 14,630 276 Я. А. КОСЕНОК, В. Е. ГАЙШУН, О. И. ТЮЛЕНКОВА и др. 7,84)104 Па. Конечная температура полировки — 51–52С. По- верхность пластин после полировки исследовалась с помощью атомно-силового микроскопа (АСÌ) (рис. 4). Композиционная сус- пензия работает в широком диапазоне температур (20–50С) не снижая своих полирующих свойств. Таким образом, разработанная композиционная суспензия на ос- Рис. 3. Графики зависимости эффективной вязкости композиционной сус- пензии от напряжения сдвига: –– построенный по формуле (1); –– по- строенный по экспериментальным данным. Рис. 4. АСÌ-изображение поверхности пластины монокристаллического кремния марки 100 КДБ (111) после полирования композиционной сус- пензией. СВОЙСТВА СУСПЕНЗИЙ СИЛИКАТНОГО ЗОЛЯ И НАНОЧАСТИЦ SiO2 277 нове наноразмерных частиц диоксида кремния с удельной поверх- ностью 50 м 2/г и силикатного золя, дополнительно стабилизиро- ванная гидроокисью натрия, является тиксотропной структуриро- ванной системой и обеспечивает эффективное химико-механиче- ское полирование на II-й стадии пластин монокристаллического кремния с величиной неровностей до 1,8 нм, а также имеет более низкую себестоимость по сравнению с зарубежными аналогами за счёт снижения затрат в 3–5 раз. ЦИТИРОВАННАЯ ЛИТЕРАТУРА 1. S. Chesters, Solid State Technology, 34, No. 1: 73 (1991). 2. А. С. Артёмов, Физика твердого тела, 46, вып. 4: 670 (2004). 3. Я. А. Косенок, В. Е. Гайшун, О. И. Тюленкова, Состав для полирования полупроводниковых материалов (Заявка на патент РБ № а 20130711, ÌПК С09G 1/02, 2013). 4. A. A. Трапезников, Г. Г. Петржик, Т. И. Коротина, Докл. АН СССР. Физ. химия, 176: 378 (1967). 5. П. Ф. Овчинников, Н. Н. Круглицкий, Н. В. Ìихайлов, Реология тиксо- тропных систем (Киев: Наукова думка: 1972). 6. Ì. Рейнер, Реология (Ìосква: Наука: 1965). REFERENCES 1. S. Chesters, Solid State Technology, 34, No. 1: 73 (1991). 2. A. S. Artyomov, Fizika Tverdogo Tela, 46, Iss. 4: 670 (2004) (in Russian). 3. Ya. A. Kosenok, V. E. Gayshun, and O. I. Tyulenkova, Sostav dlya Polirovaniya Poluprovodnikovykh Materialov (Application for a Patent of RB No. a 20130711, MPK S09G 1/02, 2013) (in Russian). 4. A. A. Trapeznikov, G. G. Petrzhik, and T. I. Korotina, Dokl. AN SSSR. Fiz. Khimiya, 176: 378 (1967) (in Russian). 5. P. F. Ovchinnikov, N. N. Kruglitskiy, and N. V. Mikhailov, Rheology of Thixo- tropic Systems (Kiev: Naukova Dumka: 1972) (in Russian). 6. M. Reiner, Rheology (Moscow: Nauka: 1965) (Russian translation).

Реологические свойства композиционных суспензий на основе силикатного золя и наноразмерных частиц диоксида кремния для применения в электронике

Institution

Ähnliche Einträge