Низкотемпературное магнетронное осаждение наноструктурных пленок Ni–C: синтез, структура и магнитные свойства
С помощью магнетронного распыления композитной Ni–C-мишени были выращены три группы пленок с отношением C/Ni (vol.%) = 30/70; 40/60; 60/40. Методом атомной силовой микроскопии (AFM) установлен кластерный характер осаждения пленок на поверхность подложки. Рентгеноструктурный анализ трех групп пленок...
Збережено в:
| Дата: | 2015 |
|---|---|
| Автори: | , , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Донецький фізико-технічний інститут ім. О.О. Галкіна НАН України
2015
|
| Назва видання: | Физика и техника высоких давлений |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/107403 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Низкотемпературное магнетронное осаждение наноструктурных пленок Ni–C: синтез, структура и магнитные свойства / А.М. Прудников, А.И. Линник, Р.В. Шалаев, Ю.Г. Пашкевич, В.Н. Варюхин, М.И. Мохненко, С.А. Костыря, Т.А. Линник // Физика и техника высоких давлений. — 2015. — Т. 25, № 3-4. — С. 102-111. — Бібліогр.: 13 назв. — рос. |