Технологічні засади формування поруватого простору на поверхні фосфіду індію
В данной работе рассмотрены технологические основы получения низкоразмерных структур на поверхности фосфида индия, представлены вариации устройства для получения пористых слоев на поверхности фосфида индия n- и р-типа....
Збережено в:
| Дата: | 2014 |
|---|---|
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Ukrainian |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2014
|
| Назва видання: | Физическая инженерия поверхности |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/108497 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Технологічні засади формування поруватого простору на поверхні фосфіду індію / Я.О. Сичікова // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 4. — С. 515-521. — Бібліогр.: 17 назв. — укр. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-108497 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-1084972016-11-06T03:02:29Z Технологічні засади формування поруватого простору на поверхні фосфіду індію Сичікова, Я.О. В даній роботі розглянуто технологічні засади отримання низькорозмірних структур на поверхні фосфіду індію, представлено варіації пристрою для отримання поруватих шарів на поверхні фосфіду індію n- та р-типу. В данной работе рассмотрены технологические основы получения низкоразмерных структур на поверхности фосфида индия, представлены вариации устройства для получения пористых слоев на поверхности фосфида индия n- и р-типа. In this paper the technological fundamentals of low-dimensional structures on the surface of indium phosphide presents variations apparatus for producing porous layers on the surface of indium phosphide n-and p-type. Porous surface is formed by anodic electrolytic etching. 2014 Article Технологічні засади формування поруватого простору на поверхні фосфіду індію / Я.О. Сичікова // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 4. — С. 515-521. — Бібліогр.: 17 назв. — укр. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/108497 539.217; 544.723 uk Физическая инженерия поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
Ukrainian |
| topic |
В даній роботі розглянуто технологічні засади отримання низькорозмірних структур на поверхні фосфіду індію, представлено варіації пристрою для отримання поруватих шарів на поверхні фосфіду індію n- та р-типу. В даній роботі розглянуто технологічні засади отримання низькорозмірних структур на поверхні фосфіду індію, представлено варіації пристрою для отримання поруватих шарів на поверхні фосфіду індію n- та р-типу. |
| spellingShingle |
В даній роботі розглянуто технологічні засади отримання низькорозмірних структур на поверхні фосфіду індію, представлено варіації пристрою для отримання поруватих шарів на поверхні фосфіду індію n- та р-типу. В даній роботі розглянуто технологічні засади отримання низькорозмірних структур на поверхні фосфіду індію, представлено варіації пристрою для отримання поруватих шарів на поверхні фосфіду індію n- та р-типу. Сичікова, Я.О. Технологічні засади формування поруватого простору на поверхні фосфіду індію Физическая инженерия поверхности |
| description |
В данной работе рассмотрены технологические основы получения низкоразмерных структур на поверхности фосфида индия, представлены вариации устройства для получения пористых слоев на поверхности фосфида индия n- и р-типа. |
| format |
Article |
| author |
Сичікова, Я.О. |
| author_facet |
Сичікова, Я.О. |
| author_sort |
Сичікова, Я.О. |
| title |
Технологічні засади формування поруватого простору на поверхні фосфіду індію |
| title_short |
Технологічні засади формування поруватого простору на поверхні фосфіду індію |
| title_full |
Технологічні засади формування поруватого простору на поверхні фосфіду індію |
| title_fullStr |
Технологічні засади формування поруватого простору на поверхні фосфіду індію |
| title_full_unstemmed |
Технологічні засади формування поруватого простору на поверхні фосфіду індію |
| title_sort |
технологічні засади формування поруватого простору на поверхні фосфіду індію |
| publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| publishDate |
2014 |
| topic_facet |
В даній роботі розглянуто технологічні засади отримання низькорозмірних структур на поверхні фосфіду індію, представлено варіації пристрою для отримання поруватих шарів на поверхні фосфіду індію n- та р-типу. |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/108497 |
| citation_txt |
Технологічні засади формування поруватого простору на поверхні фосфіду індію / Я.О. Сичікова // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 4. — С. 515-521. — Бібліогр.: 17 назв. — укр. |
| series |
Физическая инженерия поверхности |
| work_keys_str_mv |
AT sičíkovaâo tehnologíčnízasadiformuvannâporuvatogoprostorunapoverhnífosfíduíndíû |
| first_indexed |
2023-10-18T20:17:44Z |
| last_indexed |
2023-10-18T20:17:44Z |
| _version_ |
1796149482775117824 |