Homogeneous focusing of electron bunch sequence by plasma wakefield

The mechanism of focusing of relativistic electron bunches by plasma wakefield, in which all bunches of sequence are focused identically and uniformly, has been proposed and investigated. In this scheme of focusing it is necessary that length of each bunch should be equal to a half of wavelength, th...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Видавець:Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Дата:2012
Автори: Lotov, K.V., Maslov, V.I., Onishchenko, I.N., Svistun, O.M.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2012
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/108738
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Цитувати:Homogeneous focusing of electron bunch sequence by plasma wakefield / K.V. Lotov, V.I. Maslov, I.N. Onishchenko, O.M. Svistun // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 3. — С. 159-163. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-108738
record_format dspace
spelling irk-123456789-1087382016-11-16T03:02:29Z Homogeneous focusing of electron bunch sequence by plasma wakefield Lotov, K.V. Maslov, V.I. Onishchenko, I.N. Svistun, O.M. Новые и нестандартные ускорительные технологии The mechanism of focusing of relativistic electron bunches by plasma wakefield, in which all bunches of sequence are focused identically and uniformly, has been proposed and investigated. In this scheme of focusing it is necessary that length of each bunch should be equal to a half of wavelength, the charge of first bunch equals half of the charge of the others bunches and the distance between bunches equals 1.5 of wavelength. It is shown that in this case only 1-st bunch is in the finite longitudinal electrical wakefield Ez. Other bunches are in zero longitudinal electrical wakefield Ez= 0. The focusing radial electrical field in regions, occupied by bunches, is constant along each bunch. Предложен и исследован механизм фокусировки релятивистских электронных сгустков плазменными кильватерными полями, в которых все сгустки последовательности фокусируются одинаково и однородно. В этой схеме фокусировки необходимо, чтобы длина каждого сгустка была равна половине длины кильватерной волны, заряд первого сгустка был в 2 раза меньше заряда каждого из остальных сгустков, а расстояние между ними составляло 1,5 длины волны. Показано, что в этом случае только на 1-й сгусток действует продольное поле Ez. Остальные сгустки находятся в нулевом продольном кильватерном поле Ez = 0. Фокусирующее радиальное поле в областях, занятых сгустками, постоянно по длине сгустков. Запропонований і досліджений механізм фокусування релятивістських електронних згустків плазмовими кільватерними полями, у яких усі згустки послідовності фокусуються однаково та однорідно. В цій схемі фокусування необхідно, щоб довжина кожного згустка дорівнювала половині довжини кільватерної хвилі, заряд першого згустку був у 2 рази менше заряда кожного із решти згустків, а відстань між ними була рівною 1,5 довжини хвилі. Показано, що в цьому випадку лише на 1-й згусток діє повздовжнє електричне поле Ez. Останні згустки знаходяться у нульовому повздовжньому кільватерному полі Ez = 0. Фокусуюче радіальне електричне поле в зонах, що заняті згустками, постійне по довжині згустків. 2012 Article Homogeneous focusing of electron bunch sequence by plasma wakefield / K.V. Lotov, V.I. Maslov, I.N. Onishchenko, O.M. Svistun // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 3. — С. 159-163. — Бібліогр.: 3 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 29.17.+w; 41.75.Lx; http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/108738 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Новые и нестандартные ускорительные технологии
Новые и нестандартные ускорительные технологии
spellingShingle Новые и нестандартные ускорительные технологии
Новые и нестандартные ускорительные технологии
Lotov, K.V.
Maslov, V.I.
Onishchenko, I.N.
Svistun, O.M.
Homogeneous focusing of electron bunch sequence by plasma wakefield
Вопросы атомной науки и техники
description The mechanism of focusing of relativistic electron bunches by plasma wakefield, in which all bunches of sequence are focused identically and uniformly, has been proposed and investigated. In this scheme of focusing it is necessary that length of each bunch should be equal to a half of wavelength, the charge of first bunch equals half of the charge of the others bunches and the distance between bunches equals 1.5 of wavelength. It is shown that in this case only 1-st bunch is in the finite longitudinal electrical wakefield Ez. Other bunches are in zero longitudinal electrical wakefield Ez= 0. The focusing radial electrical field in regions, occupied by bunches, is constant along each bunch.
format Article
author Lotov, K.V.
Maslov, V.I.
Onishchenko, I.N.
Svistun, O.M.
author_facet Lotov, K.V.
Maslov, V.I.
Onishchenko, I.N.
Svistun, O.M.
author_sort Lotov, K.V.
title Homogeneous focusing of electron bunch sequence by plasma wakefield
title_short Homogeneous focusing of electron bunch sequence by plasma wakefield
title_full Homogeneous focusing of electron bunch sequence by plasma wakefield
title_fullStr Homogeneous focusing of electron bunch sequence by plasma wakefield
title_full_unstemmed Homogeneous focusing of electron bunch sequence by plasma wakefield
title_sort homogeneous focusing of electron bunch sequence by plasma wakefield
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2012
topic_facet Новые и нестандартные ускорительные технологии
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/108738
citation_txt Homogeneous focusing of electron bunch sequence by plasma wakefield / K.V. Lotov, V.I. Maslov, I.N. Onishchenko, O.M. Svistun // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 3. — С. 159-163. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT lotovkv homogeneousfocusingofelectronbunchsequencebyplasmawakefield
AT maslovvi homogeneousfocusingofelectronbunchsequencebyplasmawakefield
AT onishchenkoin homogeneousfocusingofelectronbunchsequencebyplasmawakefield
AT svistunom homogeneousfocusingofelectronbunchsequencebyplasmawakefield
first_indexed 2023-10-18T20:18:20Z
last_indexed 2023-10-18T20:18:20Z
_version_ 1796149507568697344