Основные положения теории высоколокального сканирующего СВЧ нагрева полупроводников и диэлектриков

В работе развиты предшествующие теоретические и экспериментальные исследования локального СВЧ нагрева полупроводников, диэлектриков и биообъектов. В результате сформулированы положения, оценивающие зависимость кинетики и локальности нагрева от длительности воздействующего СВЧ импульса, термодинамиче...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2015
Автори: Гордиенко, Ю.Е., Щербак, Е.Л., Левченко, А.В.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2015
Назва видання:Физическая инженерия поверхности
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/108764
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Основные положения теории высоколокального сканирующего СВЧ нагрева полупроводников и диэлектриков м/ Ю.Е. Гордиенко, Е.Л. Щербак, А.В. Левченко // Физическая инженерия поверхности. — 2015. — Т. 13, № 3. — С. 348-355. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-108764
record_format dspace
spelling irk-123456789-1087642016-11-16T03:02:39Z Основные положения теории высоколокального сканирующего СВЧ нагрева полупроводников и диэлектриков Гордиенко, Ю.Е. Щербак, Е.Л. Левченко, А.В. В работе развиты предшествующие теоретические и экспериментальные исследования локального СВЧ нагрева полупроводников, диэлектриков и биообъектов. В результате сформулированы положения, оценивающие зависимость кинетики и локальности нагрева от длительности воздействующего СВЧ импульса, термодинамических характеристик объекта и геометрии острия СВЧ зонда. Показано, что при сферической форме острия локальность установления температуры в приповерхностной области объекта под СВЧ зондом характеризуется малоизменяющимся микронным объемом (порядка 1 мкм3) при радиусе сферы от 1 до примерно 100 мкм. При радиусе сферы менее 1 мкм локальность становится субмикронной и улучшается с уменьшением радиуса. Длительность воздействия слабо влияет на локальность при сферической форме острия. При острие конической формы имеет место прямая зависимость локальности от радиуса острия и существенна делокализация с увеличением длительности воздействия. Отдельно представлены зависимости кинетики от физических параметров объекта. У роботі розвинуті попередні теоретичні та експериментальні дослідження локального НВЧ нагріву напівпровідників, діелектриків та біооб’єктів. У результаті сформульовані положення які оцінюють залежність кінетики та локальності нагріву від тривалості впливу НВЧ імпульсу, термодинамічних характеристик об’єкта та геометрії вістря НВЧ зонду. Показано, що при сферичній формі вістря локальність встановлення температури у приповерхневій області об’єкта під НВЧ зондом характеризується малозмінним мікронним об’ємом (порядку 1 мкм3) при радіусі сфери від 1 до, приблизно, 100 мкм. При радіусі сфери менше 1 мкм локальність стає субмікронною та покращується зі зменшенням радіуса. Тривалість впливу слабо впливає на локальність при сферичній формі вістря. При вістрі конічної форми має місце пряма залежність локальності від радіуса вістря та суттєва делокалізація зі збільшенням тривалості впливу. Окремо представленні залежності кінетики від фізичних параметрів об’єкта. In this work, the previous theoretical and experimental researches of local microwave heating of semiconductors, dielectrics and biological objects are improved. As a result, the provisions evaluating the dependence of the kinetics and local heating from duration of microwave pulse, the thermodynamic characteristics of the object and the geometry of the tip of the microwave probe are set forth. It is shown that with the spherical shape of the tip the localization of the temperature setting in the surface region of the object under the microwave probe is characterized by a small change in volume of a micron (about 1 mcm3) with a radius of the sphere from 1 to about 100 microns. With a radius of less than 1 micron the sphere localization becomes submicron sized and improves with decrease in the radius. The duration of exposure has little effect on the localization if the edge has a spherical shape. With the tip of the conical shape there is a direct dependence of the localization from the radius of the tip and significant delocalization with increase of the exposure duration. Separately the dependences of kinetics from the physical parameters of the object are presented. 2015 Article Основные положения теории высоколокального сканирующего СВЧ нагрева полупроводников и диэлектриков м/ Ю.Е. Гордиенко, Е.Л. Щербак, А.В. Левченко // Физическая инженерия поверхности. — 2015. — Т. 13, № 3. — С. 348-355. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/108764 536.331 ru Физическая инженерия поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
description В работе развиты предшествующие теоретические и экспериментальные исследования локального СВЧ нагрева полупроводников, диэлектриков и биообъектов. В результате сформулированы положения, оценивающие зависимость кинетики и локальности нагрева от длительности воздействующего СВЧ импульса, термодинамических характеристик объекта и геометрии острия СВЧ зонда. Показано, что при сферической форме острия локальность установления температуры в приповерхностной области объекта под СВЧ зондом характеризуется малоизменяющимся микронным объемом (порядка 1 мкм3) при радиусе сферы от 1 до примерно 100 мкм. При радиусе сферы менее 1 мкм локальность становится субмикронной и улучшается с уменьшением радиуса. Длительность воздействия слабо влияет на локальность при сферической форме острия. При острие конической формы имеет место прямая зависимость локальности от радиуса острия и существенна делокализация с увеличением длительности воздействия. Отдельно представлены зависимости кинетики от физических параметров объекта.
format Article
author Гордиенко, Ю.Е.
Щербак, Е.Л.
Левченко, А.В.
spellingShingle Гордиенко, Ю.Е.
Щербак, Е.Л.
Левченко, А.В.
Основные положения теории высоколокального сканирующего СВЧ нагрева полупроводников и диэлектриков
Физическая инженерия поверхности
author_facet Гордиенко, Ю.Е.
Щербак, Е.Л.
Левченко, А.В.
author_sort Гордиенко, Ю.Е.
title Основные положения теории высоколокального сканирующего СВЧ нагрева полупроводников и диэлектриков
title_short Основные положения теории высоколокального сканирующего СВЧ нагрева полупроводников и диэлектриков
title_full Основные положения теории высоколокального сканирующего СВЧ нагрева полупроводников и диэлектриков
title_fullStr Основные положения теории высоколокального сканирующего СВЧ нагрева полупроводников и диэлектриков
title_full_unstemmed Основные положения теории высоколокального сканирующего СВЧ нагрева полупроводников и диэлектриков
title_sort основные положения теории высоколокального сканирующего свч нагрева полупроводников и диэлектриков
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
publishDate 2015
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/108764
citation_txt Основные положения теории высоколокального сканирующего СВЧ нагрева полупроводников и диэлектриков м/ Ю.Е. Гордиенко, Е.Л. Щербак, А.В. Левченко // Физическая инженерия поверхности. — 2015. — Т. 13, № 3. — С. 348-355. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
series Физическая инженерия поверхности
work_keys_str_mv AT gordienkoûe osnovnyepoloženiâteoriivysokolokalʹnogoskaniruûŝegosvčnagrevapoluprovodnikovidiélektrikov
AT ŝerbakel osnovnyepoloženiâteoriivysokolokalʹnogoskaniruûŝegosvčnagrevapoluprovodnikovidiélektrikov
AT levčenkoav osnovnyepoloženiâteoriivysokolokalʹnogoskaniruûŝegosvčnagrevapoluprovodnikovidiélektrikov
first_indexed 2023-10-18T20:18:23Z
last_indexed 2023-10-18T20:18:23Z
_version_ 1796149510546653184