Микроскопическое исследование поверхности радиационно-термически окисленного бериллия
Методом атомно-силовой микроскопии изучена морфология поверхности металлического бериллия до и после радиационно-термической обработки в водной среде при температурах 473…773 K при воздействии гамма-квантов. Показано, что радиационно-термическая модификация рельефа поверхности бериллия сопровождаетс...
Збережено в:
Дата: | 2012 |
---|---|
Автори: | , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2012
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/109088 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Микроскопическое исследование поверхности радиационно-термически окисленного бериллия / Н.Н. Гаджиева, А.А. Гарибов, Ф.Н. Нурмамедова, Ш.С. Исмаилов // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 5. — С. 21-26. — Бібліогр.: 19 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineРезюме: | Методом атомно-силовой микроскопии изучена морфология поверхности металлического бериллия до и после радиационно-термической обработки в водной среде при температурах 473…773 K при воздействии гамма-квантов. Показано, что радиационно-термическая модификация рельефа поверхности бериллия сопровождается формированием оксидных структур, дефектность которых определяется температурой и временем облучения. Особенности поверхностных структур показывают, что сформированные сплошные оксидные слои, объединенные в кластеры, по сравнению с тонкими оксидными пленками преимущественно состоят из наночастиц больших размеров разного типа. По ИК-спектрам отражения прослежено формирование оксидных слоев в зависимости от времени облучения и установлена неоднородность их структур. Выявлено, что формирование сплошных оксидных слоев приводит к уменьшению поверхностной электропроводимости бериллия на ~ 4 порядка. |
---|