Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
Non-self-maintained gaseous discharge, where the vacuum-arc plasma gun is used as a source of supplementary charges, is characterized by a great currents and high values of ionization coefficient. This kind of discharge is well adapted for thermo-chemical treatment of products but still is not appli...
Збережено в:
| Дата: | 2007 |
|---|---|
| Автори: | , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2007
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110501 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition / A.I. Timoshenko, V.S. Taran, V.I. Tereshin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 179-181. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-110501 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-1105012017-01-05T03:03:44Z Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition Timoshenko, A.I. Taran, V.S. Tereshin, V.I. Low temperature plasma and plasma technologies Non-self-maintained gaseous discharge, where the vacuum-arc plasma gun is used as a source of supplementary charges, is characterized by a great currents and high values of ionization coefficient. This kind of discharge is well adapted for thermo-chemical treatment of products but still is not applied for a coatings deposition. In this paper we show the possibility of a-C:H films synthesis from a plasma of this discharge. The films obtained have a high transparence and good adhesion to metal and dielectric substrates. In addition, such parameters as temperature and density of electrons, ionization coefficient, plasma potential distribution and ion energy have been determined by probe methods for the plasma of non-self-maintained discharge in both: nitrogen and propane-butane mixture. Досліджено ряд характеристик плазми двоступінчастого вакуумно-дугового розряду. За допомогою одиночного та двосіткового зонду визначені: температура і концентрація електронів, коефіцієнт іонізації, розподіл потенціалу на розрядному проміжку та енергія іонів. Дані отримано в широкому діапазоні тиску для двох газів: азоту і пропанобутанової суміші. Показана можливість синтезу гідрогенізованих вуглецевих покриттів із плазми газового ступеню двоступінчастого вакуумно-дугового розряду, що збуджується в пропанобутановій суміші. Исследован ряд характеристик плазмы двухступенчатого вакуумно-дугового разряда. Методом одиночного и двухсеточного зонда определены: температура и плотность электронов, коэффициент ионизации, распределение потенциала в разрядном промежутке и энергия ионов. Данные получены в широком диапазоне давлений для двух газов: азота и пропанобутановой смеси. Показана возможность синтеза гидрогенизированных углеродных покрытий из плазмы газовой ступени двухступенчатого вакуумно-дугового разряда, возбуждаемого в пропанобутановой смеси. 2007 Article Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition / A.I. Timoshenko, V.S. Taran, V.I. Tereshin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 179-181. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77.-j http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110501 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
English |
| topic |
Low temperature plasma and plasma technologies Low temperature plasma and plasma technologies |
| spellingShingle |
Low temperature plasma and plasma technologies Low temperature plasma and plasma technologies Timoshenko, A.I. Taran, V.S. Tereshin, V.I. Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition Вопросы атомной науки и техники |
| description |
Non-self-maintained gaseous discharge, where the vacuum-arc plasma gun is used as a source of supplementary charges, is characterized by a great currents and high values of ionization coefficient. This kind of discharge is well adapted for thermo-chemical treatment of products but still is not applied for a coatings deposition. In this paper we show the possibility of a-C:H films synthesis from a plasma of this discharge. The films obtained have a high transparence and good adhesion to metal and dielectric substrates. In addition, such parameters as temperature and density of electrons, ionization coefficient, plasma potential distribution and ion energy have been determined by probe methods for the plasma of non-self-maintained discharge in both: nitrogen and propane-butane mixture. |
| format |
Article |
| author |
Timoshenko, A.I. Taran, V.S. Tereshin, V.I. |
| author_facet |
Timoshenko, A.I. Taran, V.S. Tereshin, V.I. |
| author_sort |
Timoshenko, A.I. |
| title |
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition |
| title_short |
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition |
| title_full |
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition |
| title_fullStr |
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition |
| title_full_unstemmed |
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition |
| title_sort |
plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| publishDate |
2007 |
| topic_facet |
Low temperature plasma and plasma technologies |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110501 |
| citation_txt |
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition / A.I. Timoshenko, V.S. Taran, V.I. Tereshin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 179-181. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
| series |
Вопросы атомной науки и техники |
| work_keys_str_mv |
AT timoshenkoai plasmacharacteristicsoftwostepvacuumarcdischargeanditsapplicationforacoatingsdeposition AT taranvs plasmacharacteristicsoftwostepvacuumarcdischargeanditsapplicationforacoatingsdeposition AT tereshinvi plasmacharacteristicsoftwostepvacuumarcdischargeanditsapplicationforacoatingsdeposition |
| first_indexed |
2023-10-18T20:22:16Z |
| last_indexed |
2023-10-18T20:22:16Z |
| _version_ |
1796149684203421696 |