Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing
It is shown, that in electromagnetic plasma lenses moment aberrations obey the conservation law of the moment of the ion generalized momentum; they disappear when an ion source is placed in a zero magnetic field. Geometrical aberrations can be removed by choice of the optimal electric field intensit...
Збережено в:
Дата: | 2003 |
---|---|
Автори: | , |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2003
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110539 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing / V.I. Butenko, B.I. Ivanov // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 121-124. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraineid |
irk-123456789-110539 |
---|---|
record_format |
dspace |
spelling |
irk-123456789-1105392017-01-05T03:03:50Z Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing Butenko, V.I. Ivanov, B.I. Plasma electronics It is shown, that in electromagnetic plasma lenses moment aberrations obey the conservation law of the moment of the ion generalized momentum; they disappear when an ion source is placed in a zero magnetic field. Geometrical aberrations can be removed by choice of the optimal electric field intensity distribution along the radius that have been calculated. As a result, the ion current density and beam compression can achieve in the focus a value up to 10³ A/cm², and 10⁵, accordingly. Then influence of discrete distribution of the external (boundary) electrical potential upon ion focusing was studied, and an example of two-lens achromatic system have been investigated as well. Досліджується плазмова лінза Морозова, у котрої магнітні поверхні є еквіпотенціалями електричного поля. Магнітне поле створюється центральним струмовим витком і двома бічними витками, включеними назустріч центральному. У роботі приведені результати комп'ютерного моделювання фокусування іонів з урахуванням їх поздовжнього, радіального й азимутального руху. Розглянуто засоби усунення моментних, геометричних і хроматичних аберацій. Проводиться оптимізація магнітного й електричного полів по величині і розподілу в просторі. Промодельоване вплив дискретного розподілу потенціалу на фокусування іонів і розглянуті пов'язані з цим аберації. Розглянуто комп'ютерну модель двухлінзової ахроматичної системи. Исследуется плазменная линза Морозова, в которой магнитные поверхности являются эквипотенциалями электрического поля. Магнитное поле создается центральным токовым витком и двумя боковыми витками, включенными навстречу центральному. В работе приведены результаты компьютерного моделирования фокусировки ионов с учетом их продольного, радиального и азимутального движения. Рассмотрены способы устранения моментных, геометрических и хроматических аберраций. Проводится оптимизация магнитного и электрического полей по величине и распределению в пространстве. Промоделировано влияние дискретного распределения потенциала на фокусировку ионов и рассмотрены связанные с этим аберрации. Рассмотрена компьютерная модель двухлинзовой ахроматической системы. 2003 Article Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing / V.I. Butenko, B.I. Ivanov // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 121-124. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.40.Mj http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110539 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
collection |
DSpace DC |
language |
English |
topic |
Plasma electronics Plasma electronics |
spellingShingle |
Plasma electronics Plasma electronics Butenko, V.I. Ivanov, B.I. Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing Вопросы атомной науки и техники |
description |
It is shown, that in electromagnetic plasma lenses moment aberrations obey the conservation law of the moment of the ion generalized momentum; they disappear when an ion source is placed in a zero magnetic field. Geometrical aberrations can be removed by choice of the optimal electric field intensity distribution along the radius that have been calculated. As a result, the ion current density and beam compression can achieve in the focus a value up to 10³ A/cm², and 10⁵, accordingly. Then influence of discrete distribution of the external (boundary) electrical potential upon ion focusing was studied, and an example of two-lens achromatic system have been investigated as well. |
format |
Article |
author |
Butenko, V.I. Ivanov, B.I. |
author_facet |
Butenko, V.I. Ivanov, B.I. |
author_sort |
Butenko, V.I. |
title |
Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing |
title_short |
Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing |
title_full |
Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing |
title_fullStr |
Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing |
title_full_unstemmed |
Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing |
title_sort |
aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing |
publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
publishDate |
2003 |
topic_facet |
Plasma electronics |
url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110539 |
citation_txt |
Aberrations in electromagnetic plasma lenses proposed for intense large-aperture ion beam focusing / V.I. Butenko, B.I. Ivanov // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 1. — С. 121-124. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. |
series |
Вопросы атомной науки и техники |
work_keys_str_mv |
AT butenkovi aberrationsinelectromagneticplasmalensesproposedforintenselargeapertureionbeamfocusing AT ivanovbi aberrationsinelectromagneticplasmalensesproposedforintenselargeapertureionbeamfocusing |
first_indexed |
2023-10-18T20:22:17Z |
last_indexed |
2023-10-18T20:22:17Z |
_version_ |
1796149687070228480 |