Двухкатодный источник фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы
Описаны устройство и принцип действия нового двухкатодного источника фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы. Приведены результаты зондовых измерений ионной компоненты выходного плазменного потока в зависимости от величины и геометрии распределения магнитных полей в плазмоведущих каналах источника. Си...
Збережено в:
Дата: | 2008 |
---|---|
Автори: | , , , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2008
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110859 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Двухкатодный источник фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы / И.И. Аксёнов, Д.С. Аксёнов, В.В. Васильев, А.А. Лучанинов, Е.Н. Решетняк, В.Е. Стрельницкий // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 1. — С. 136-141. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineРезюме: | Описаны устройство и принцип действия нового двухкатодного источника фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы. Приведены результаты зондовых измерений ионной компоненты выходного плазменного потока в зависимости от величины и геометрии распределения магнитных полей в плазмоведущих каналах источника. Системный коэффициент эффективности устройства составляет ~ 2,5 %. Показана возможность управления диаграммой распределения плотности выходного ионного тока системы. Неравномерность распределения концентрации компонентов покрытия при использовании катодов из разных металлов (алюминия и титана) – около ± 6,5 %. |
---|