Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів

• Дата: 2009
• Автори: Аксьонов, І.І., Білоус, В.А., Голтвяниця, С.К., Голтвяниця, В.С., Задніпровський, Ю.О., Купрiн, О.С., Ломіно, М.С., Овчаренко, В.Д.
• Формат: Стаття
• Мова: Ukrainian
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2009
• Назва видання: Вопросы атомной науки и техники
• Теми: Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111123
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів / І.І. Аксьонов, В.А. Білоус, С.К. Голтвяниця, В.С. Голтвяниця, Ю.О. Задніпровський, O.С. Купрiн, М.С. Ломіно, В.Д. Овчаренко // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 2. — С. 181-184. — Бібліогр.: 5 назв. — укр.

На прикладі композиційних Ti-Si та Ti-Al катодних матеріалів експериментально досліджені особливості переносу компонентів цих матеріалів до покриттів, осаджуваних вакуумно-дуговим методом. Виявлена можливість регулювання концентрації компонентів в покритті в широких межах зміною параметрів процесу осадження: негативної напруги зміщення на підкладці, температури підкладки, напруженості фокусуючого магнітного поля.