Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів

На прикладі композиційних Ti-Si та Ti-Al катодних матеріалів експериментально досліджені особливості переносу компонентів цих матеріалів до покриттів, осаджуваних вакуумно-дуговим методом. Виявлена можливість регулювання концентрації компонентів в покритті в широких межах зміною параметрів процесу о...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2009
Автори: Аксьонов, І.І., Білоус, В.А., Голтвяниця, С.К., Голтвяниця, В.С., Задніпровський, Ю.О., Купрiн, О.С., Ломіно, М.С., Овчаренко, В.Д.
Формат: Стаття
Мова:Ukrainian
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2009
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111123
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів / І.І. Аксьонов, В.А. Білоус, С.К. Голтвяниця, В.С. Голтвяниця, Ю.О. Задніпровський, O.С. Купрiн, М.С. Ломіно, В.Д. Овчаренко // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 2. — С. 181-184. — Бібліогр.: 5 назв. — укр.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-111123
record_format dspace
spelling irk-123456789-1111232017-01-09T03:03:23Z Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів Аксьонов, І.І. Білоус, В.А. Голтвяниця, С.К. Голтвяниця, В.С. Задніпровський, Ю.О. Купрiн, О.С. Ломіно, М.С. Овчаренко, В.Д. Физика радиационных и ионно-плазменных технологий На прикладі композиційних Ti-Si та Ti-Al катодних матеріалів експериментально досліджені особливості переносу компонентів цих матеріалів до покриттів, осаджуваних вакуумно-дуговим методом. Виявлена можливість регулювання концентрації компонентів в покритті в широких межах зміною параметрів процесу осадження: негативної напруги зміщення на підкладці, температури підкладки, напруженості фокусуючого магнітного поля. На примере композиционных Ti-Si и Ti-Al катодных материалов экспериментально исследованы особенности переноса компонентов этих материалов на покрытия, осаждаемые вакуумно-дуговым методом. Установлена возможность регулирования концентрации компонентов покрытия в широких пределах изменением параметров процесса осаждения: отрицательного напряжения смещения на подложке, её температуры и напряжённости фокусирующего магнитного поля. On an example of composite Ti-Si and Ti-Al cathodic materials features of carrying over of components of these materials on the coatings deposited by a vakuumno-arc method are experimentally investigated. Possibility of regulation of the components concentration in the coating over a wide range is established by change of deposition process parameters: negative bias voltage on a substrate, its temperature and intensity of a focusing magnetic field. 2009 Article Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів / І.І. Аксьонов, В.А. Білоус, С.К. Голтвяниця, В.С. Голтвяниця, Ю.О. Задніпровський, O.С. Купрiн, М.С. Ломіно, В.Д. Овчаренко // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 2. — С. 181-184. — Бібліогр.: 5 назв. — укр. 1562-6016 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111123 621.793 uk Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Ukrainian
topic Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
spellingShingle Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Аксьонов, І.І.
Білоус, В.А.
Голтвяниця, С.К.
Голтвяниця, В.С.
Задніпровський, Ю.О.
Купрiн, О.С.
Ломіно, М.С.
Овчаренко, В.Д.
Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів
Вопросы атомной науки и техники
description На прикладі композиційних Ti-Si та Ti-Al катодних матеріалів експериментально досліджені особливості переносу компонентів цих матеріалів до покриттів, осаджуваних вакуумно-дуговим методом. Виявлена можливість регулювання концентрації компонентів в покритті в широких межах зміною параметрів процесу осадження: негативної напруги зміщення на підкладці, температури підкладки, напруженості фокусуючого магнітного поля.
format Article
author Аксьонов, І.І.
Білоус, В.А.
Голтвяниця, С.К.
Голтвяниця, В.С.
Задніпровський, Ю.О.
Купрiн, О.С.
Ломіно, М.С.
Овчаренко, В.Д.
author_facet Аксьонов, І.І.
Білоус, В.А.
Голтвяниця, С.К.
Голтвяниця, В.С.
Задніпровський, Ю.О.
Купрiн, О.С.
Ломіно, М.С.
Овчаренко, В.Д.
author_sort Аксьонов, І.І.
title Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів
title_short Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів
title_full Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів
title_fullStr Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів
title_full_unstemmed Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів
title_sort перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2009
topic_facet Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111123
citation_txt Перенесення катодного матеріалу в процесі вакуумно-дугового формування покриттів / І.І. Аксьонов, В.А. Білоус, С.К. Голтвяниця, В.С. Голтвяниця, Ю.О. Задніпровський, O.С. Купрiн, М.С. Ломіно, В.Д. Овчаренко // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 2. — С. 181-184. — Бібліогр.: 5 назв. — укр.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT aksʹonovíí perenesennâkatodnogomateríaluvprocesívakuumnodugovogoformuvannâpokrittív
AT bílousva perenesennâkatodnogomateríaluvprocesívakuumnodugovogoformuvannâpokrittív
AT goltvânicâsk perenesennâkatodnogomateríaluvprocesívakuumnodugovogoformuvannâpokrittív
AT goltvânicâvs perenesennâkatodnogomateríaluvprocesívakuumnodugovogoformuvannâpokrittív
AT zadníprovsʹkijûo perenesennâkatodnogomateríaluvprocesívakuumnodugovogoformuvannâpokrittív
AT kuprinos perenesennâkatodnogomateríaluvprocesívakuumnodugovogoformuvannâpokrittív
AT lomínoms perenesennâkatodnogomateríaluvprocesívakuumnodugovogoformuvannâpokrittív
AT ovčarenkovd perenesennâkatodnogomateríaluvprocesívakuumnodugovogoformuvannâpokrittív
first_indexed 2024-03-30T09:15:13Z
last_indexed 2024-03-30T09:15:13Z
_version_ 1796149748724400128