Плазменный ускоритель с анодным слоем для обработки поверхности материалов

• Main Authors: Гончаров, А.А., Добровольский, А.Н., Павлов, С.Н., Проценко, И.М., Костин, Е.Г.
• Format: Article
• Language: Russian
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2003
• Series: Вопросы атомной науки и техники
• Subjects: Приложения и технологии
• Online Access: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111222

Современные технологии магнетронного напыления технологических и декоративных покрытий сегодня широко используются во всем мире. Наряду с использованием вакуумно-дуговых методов обработки они позволяют отказаться от экологически вредных химических методов получения слоев с заданными параметрами. Для получения качественных покрытий необходима предварительная очистка и активация поверхности непосредственно перед напылением. Наиболее логичным решением представляется использование для этих целей плазменных источников близкого к магнетронам типа. Представляемая статья посвящена рассмотрению возможности работы в едином технологическом цикле с магнетроном различных модификаций плазменного ускорителя с анодным слоем. Представленные результаты демонстрируют высокую эффективность таких устройств и возможность создания технологических линий по непрерывной обработке поверхностей с различной геометрией. Скорости травления по меди (больше 1 нм/с) не уступают лучшим известным данным для источников кауфмановского типа. Диапазон рабочих давлений (до 1,2-3*10⁻³ мм рт.ст.) позволяет их размещать в общей камере с магнетроном.