Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter

Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter

Composite films were formed by vacuum-arc method using two plasma sources equipped with aluminum and titanium cathodes. The sources were coupled with a dual channel T-shaped magnetic filter. Ability of Ti-Al-N films composition adjustment by deposition of mixed plasma streams from the plasma sources...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2011
Автори: Aksyonov, D.S., Aksenov, I.I., Luchaninov, A.A., Reshetnyak, E.N., Strel’nitskij, V.E.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2011
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111438
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter / D.S. Aksyonov, I.I. Aksenov, A.A. Luchaninov, E.N. Reshetnyak, V.E. Strel’nitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 4. — С. 140-144. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-111438
record_format dspace
spelling irk-123456789-1114382017-01-20T21:00:30Z Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter Aksyonov, D.S. Aksenov, I.I. Luchaninov, A.A. Reshetnyak, E.N. Strel’nitskij, V.E. Физика радиационных и ионно-плазменных технологий Composite films were formed by vacuum-arc method using two plasma sources equipped with aluminum and titanium cathodes. The sources were coupled with a dual channel T-shaped magnetic filter. Ability of Ti-Al-N films composition adjustment by deposition of mixed plasma streams from the plasma sources was investigated. It has been found that film composition can be varied by changing arc currents in plasma sources. However adjustment range of film composition is rather limited, and can be expanded by changing magnetic field intensity in anode area of plasma sources. Obtained films have uniform composition and thickness on 180 mm diameter surface. Conditions for aluminum content adjustment range from 14 to 60 wt.% were found. Досліджено можливість регулювання складу Ti-Al-N-покриттів, які отримано вакуумно-дуговим методом шляхом змішування потоків плазми від генераторів із титановим та алюмінієвим катодом. Фільтрація потоків здійснювалась за допомогою спільного для обох генераторів T-подібного двоканального фільтра. Встановлено, що зміни вмісту алюмінію та титану в покритті можливо досягти шляхом регулювання співвідношення розрядних струмів генераторів плазми. Збільшення діапазону регулювання складу покриття досягається шляхом підбору інтенсивності магнітних полів в анодних секціях генераторів плазми. Отримані покриття однорідні за складом на підкладці діаметром 180 мм. Визначено умови, які дозволяють регулювати концентрацію алюмінію у межах від 14 до 60 ваг. %. Исследована возможность регулировки состава Ti-Al-N-покрытий, получаемых вакуумно-дуговым методом путём смешения потоков плазмы от генераторов с титановым и алюминиевым катодом. Фильтрация потоков осуществлялась с помощью общего для обоих генераторов Т-образного двухканального фильтра. Установлено, что изменения содержания алюминия и титана в покрытии можно достичь путём регулировки соотношения разрядных токов в генераторах плазмы. Увеличение диапазона регулировки состава покрытия достигается путём подбора интенсивности магнитных полей в анодных секциях генераторов плазмы. Полученные покрытия однородны по составу на подложке диаметром 180 мм. Определены условия, позволяющие регулировать концентрацию алюминия в пределах от 14 до 60 вес. %. 2011 Article Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter / D.S. Aksyonov, I.I. Aksenov, A.A. Luchaninov, E.N. Reshetnyak, V.E. Strel’nitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 4. — С. 140-144. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. 1562-6016 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111438 621.793 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
spellingShingle Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Aksyonov, D.S.
Aksenov, I.I.
Luchaninov, A.A.
Reshetnyak, E.N.
Strel’nitskij, V.E.
Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter
Вопросы атомной науки и техники
description Composite films were formed by vacuum-arc method using two plasma sources equipped with aluminum and titanium cathodes. The sources were coupled with a dual channel T-shaped magnetic filter. Ability of Ti-Al-N films composition adjustment by deposition of mixed plasma streams from the plasma sources was investigated. It has been found that film composition can be varied by changing arc currents in plasma sources. However adjustment range of film composition is rather limited, and can be expanded by changing magnetic field intensity in anode area of plasma sources. Obtained films have uniform composition and thickness on 180 mm diameter surface. Conditions for aluminum content adjustment range from 14 to 60 wt.% were found.
format Article
author Aksyonov, D.S.
Aksenov, I.I.
Luchaninov, A.A.
Reshetnyak, E.N.
Strel’nitskij, V.E.
author_facet Aksyonov, D.S.
Aksenov, I.I.
Luchaninov, A.A.
Reshetnyak, E.N.
Strel’nitskij, V.E.
author_sort Aksyonov, D.S.
title Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter
title_short Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter
title_full Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter
title_fullStr Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter
title_full_unstemmed Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter
title_sort composition adjustment of vacuum-arc ti-al-n films, deposited with use of two-channel filter
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2011
topic_facet Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111438
citation_txt Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter / D.S. Aksyonov, I.I. Aksenov, A.A. Luchaninov, E.N. Reshetnyak, V.E. Strel’nitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 4. — С. 140-144. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT aksyonovds compositionadjustmentofvacuumarctialnfilmsdepositedwithuseoftwochannelfilter
AT aksenovii compositionadjustmentofvacuumarctialnfilmsdepositedwithuseoftwochannelfilter
AT luchaninovaa compositionadjustmentofvacuumarctialnfilmsdepositedwithuseoftwochannelfilter
AT reshetnyaken compositionadjustmentofvacuumarctialnfilmsdepositedwithuseoftwochannelfilter
AT strelnitskijve compositionadjustmentofvacuumarctialnfilmsdepositedwithuseoftwochannelfilter
first_indexed 2024-03-30T09:16:56Z
last_indexed 2024-03-30T09:16:56Z
_version_ 1796149781243887616

Схожі ресурси