Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением

Представлены оригинальные результаты, полученные с помощью методов медленного пучка позитронов, рентгеновского микроанализа, РОР, РЭМ с ЭДС, АСМ, а также измерения нанотвердости, модуля упругости наноструктурных покрытий из Ti-Si-N, осажденных катодным вакуумно-дуговым испарителем, до и после отжига...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2013
Автори:	Погребняк, А.Д., Krause-Rehberg, R., Купчишин, А.И., Дробышевская, А.А., Иващенко, В.И., Шипиленко, А.П., Колесников, Д.А., Ердыбаева, Н.К.
Формат:	Стаття
Мова:	Russian
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2013
Назва видання:	Вопросы атомной науки и техники
Теми:	Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Онлайн доступ:	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111758
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением / А.Д. Погребняк, R. Krause-Rehberg, А.И. Купчишин, А.А. Дробышевская, В.И. Иващенко, А.П. Шипиленко, Д.А. Колесников, Н.К. Ердыбаева // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 2. — С. 134-139. — Бібліогр.: 19 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

id	irk-123456789-111758
record_format	dspace
spelling	irk-123456789-1117582017-01-15T03:02:38Z Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением Погребняк, А.Д. Krause-Rehberg, R. Купчишин, А.И. Дробышевская, А.А. Иващенко, В.И. Шипиленко, А.П. Колесников, Д.А. Ердыбаева, Н.К. Физика радиационных и ионно-плазменных технологий Представлены оригинальные результаты, полученные с помощью методов медленного пучка позитронов, рентгеновского микроанализа, РОР, РЭМ с ЭДС, АСМ, а также измерения нанотвердости, модуля упругости наноструктурных покрытий из Ti-Si-N, осажденных катодным вакуумно-дуговым испарителем, до и после отжига при температуре 600 °С (в течение 30 мин). Обнаружено образование твердого раствора (Ti, Si)N, в котором формируется напряженно-деформированное состояние (деформация сжатия − 2,6 %), а в результате термического отжига деформация уменьшается незначительно − до величины 2,3 %. В покрытии Ti-Si-N, как показали измерения S-параметра (ДУАП), за счет термодиффузии на интерфейсах сегрегируют дефекты, образуя кластеры вакансионных дефектов с высокой концентрацией − от 5·10¹⁶ до 7,5·10¹⁷ см⁻³. Представлено оригінальні результати, які отримані за допомогою методів повільного пучка позитронів, рентгенівського мікроаналізу, РЗР, РЕМ з ЕДС, АСМ, а також вимірювання нанотвердості, модуля пружності при дослідженні наноструктурних покриттів з Ti-Si-N, осаджених катодним вакуумно-дуговим випаровуванням до і після відпалу при температурі 600 °С (на протязі 30 хв). Виявлено утворення твердого розчину (Ti, Si) N, в якому формується напружено-деформований стан (деформація стиску − 2,6 %), а в результаті термічного відпалу деформація зменшується незначно − до 2,3 %. У покритті Ti-Si-N, як показали вимірювання S-параметра (ДУАП), за рахунок термодифузії на інтерфейсах сегрегують дефекти, утворюючи кластери вакансій їх дефектів з високою концентрацією − від 5·10¹⁶ до 7,5·10¹⁷ см⁻³. Original results of investigations of Ti-Si-N nanostructured coatings deposited by cathodic vacuum arc evaporation are presented in this work. Investigations are provided by the supplementing each other methods: slow positron beam, XRD, SEM with EDS, RBS, AFM, as well as measurement of nanohardness and elastic modulus before and after annealing at 600 °C (for 30 min). It was found that after deposition the solid solution (Ti, Si) N is formed in coatings. In this solid solution the stress-strain state (compressive strain – 2,6 %) is occurring. As a result of thermal annealing the deformation slightly decreases to – 2,3 %. Measurements provided by method of Positron annihilation spectroscopy (PAS) show that at the interfaces of coatings the segregated defects are occurring as a result of thermal diffusion process. These defects form clusters of vacancy-type defects of a high concentration – from 5·10¹⁶ sm⁻³ до 7,5·10¹⁷ sm⁻³ 2013 Article Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением / А.Д. Погребняк, R. Krause-Rehberg, А.И. Купчишин, А.А. Дробышевская, В.И. Иващенко, А.П. Шипиленко, Д.А. Колесников, Н.К. Ердыбаева // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 2. — С. 134-139. — Бібліогр.: 19 назв. — рос. 1562-6016 PACS: 61.05.cm, 61.46.Hk, 62.20.Qp.68.37.Hk, 81.15.-z http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111758 ru Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection	DSpace DC
language	Russian
topic	Физика радиационных и ионно-плазменных технологий Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
spellingShingle	Физика радиационных и ионно-плазменных технологий Физика радиационных и ионно-плазменных технологий Погребняк, А.Д. Krause-Rehberg, R. Купчишин, А.И. Дробышевская, А.А. Иващенко, В.И. Шипиленко, А.П. Колесников, Д.А. Ердыбаева, Н.К. Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением Вопросы атомной науки и техники
description	Представлены оригинальные результаты, полученные с помощью методов медленного пучка позитронов, рентгеновского микроанализа, РОР, РЭМ с ЭДС, АСМ, а также измерения нанотвердости, модуля упругости наноструктурных покрытий из Ti-Si-N, осажденных катодным вакуумно-дуговым испарителем, до и после отжига при температуре 600 °С (в течение 30 мин). Обнаружено образование твердого раствора (Ti, Si)N, в котором формируется напряженно-деформированное состояние (деформация сжатия − 2,6 %), а в результате термического отжига деформация уменьшается незначительно − до величины 2,3 %. В покрытии Ti-Si-N, как показали измерения S-параметра (ДУАП), за счет термодиффузии на интерфейсах сегрегируют дефекты, образуя кластеры вакансионных дефектов с высокой концентрацией − от 5·10¹⁶ до 7,5·10¹⁷ см⁻³.
format	Article
author	Погребняк, А.Д. Krause-Rehberg, R. Купчишин, А.И. Дробышевская, А.А. Иващенко, В.И. Шипиленко, А.П. Колесников, Д.А. Ердыбаева, Н.К.
author_facet	Погребняк, А.Д. Krause-Rehberg, R. Купчишин, А.И. Дробышевская, А.А. Иващенко, В.И. Шипиленко, А.П. Колесников, Д.А. Ердыбаева, Н.К.
author_sort	Погребняк, А.Д.
title	Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
title_short	Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
title_full	Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
title_fullStr	Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
title_full_unstemmed	Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
title_sort	влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия ti-si-n, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением
publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate	2013
topic_facet	Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
url	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111758
citation_txt	Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением / А.Д. Погребняк, R. Krause-Rehberg, А.И. Купчишин, А.А. Дробышевская, В.И. Иващенко, А.П. Шипиленко, Д.А. Колесников, Н.К. Ердыбаева // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 2. — С. 134-139. — Бібліогр.: 19 назв. — рос.
series	Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv	AT pogrebnâkad vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvojstvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem AT krauserehbergr vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvojstvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem AT kupčišinai vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvojstvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem AT drobyševskaâaa vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvojstvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem AT ivaŝenkovi vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvojstvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem AT šipilenkoap vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvojstvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem AT kolesnikovda vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvojstvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem AT erdybaevank vliânietermičeskogootžiganastrukturudefektovisvojstvananostukturnogopokrytiâtisinpolučennogokatodnymvakuumnodugovymosaždeniem
first_indexed	2024-03-30T09:18:38Z
last_indexed	2024-03-30T09:18:38Z
_version_	1796149814029713408

Влияние термического отжига на структуру дефектов и свойства наностуктурного покрытия Ti-Si-N, полученного катодным вакуумно-дуговым осаждением

Репозитарії

Схожі ресурси