Физические механизмы распыления мишеней из SiO₂ ускоренными ионами фуллерена C₆₀

• Дата: 2015
• Автори: Малеев, М.В., Зубарев, Е.Н., Пуха, В.Е., Дроздов, А.Н., Вус, А.С.
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2015
• Назва видання: Металлофизика и новейшие технологии
• Теми: Строение и свойства наноразмерных и мезоскопических материалов
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/112255
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Физические механизмы распыления мишеней из SiO₂ ускоренными ионами фуллерена C₆₀ / М. В. Малеев, Е. Н. Зубарев, В. Е. Пуха, А. Н. Дроздов, А. С. Вус // Металлофизика и новейшие технологии. — 2015. — Т. 37, № 6. — С. 775-788. — Бібліогр.: 27 назв. — рос.

Исследованы физические закономерности и механизмы роста углеродных плёнок и эрозии поверхности при облучении мишеней из кварца (SiO₂) пучком ускоренных ионов C₆₀ с энергией в интервале 2,5—10 кэВ при температуре мишени 373 К. Установлено, что рост углеродных плёнок на поверхности облучаемых мишеней из SiO₂ наблюдается в интервале энергий ионов 2,5—3,75 кэВ. При этом скорость осаждения углерода лимитируется процессом эрозии поверхности роста, интенсивность которого зависит от энергии ионов. При энергии ионов выше верхних значений указанных интервалов плёнка на поверхности не формируется, и наблюдается эрозия материала мишени. Показана возможность удаления аморфного оксида с поверхности кремниевой подложки и формирование на ней эпитаксиального карбида кремния.