Физические механизмы распыления мишеней из SiO₂ ускоренными ионами фуллерена C₆₀

• Main Authors: Малеев, М.В., Зубарев, Е.Н., Пуха, В.Е., Дроздов, А.Н., Вус, А.С.
• Format: Article
• Language: Russian
• Published: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2015
• Series: Металлофизика и новейшие технологии
• Subjects: Строение и свойства наноразмерных и мезоскопических материалов
• Online Access: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/112255

Исследованы физические закономерности и механизмы роста углеродных плёнок и эрозии поверхности при облучении мишеней из кварца (SiO₂) пучком ускоренных ионов C₆₀ с энергией в интервале 2,5—10 кэВ при температуре мишени 373 К. Установлено, что рост углеродных плёнок на поверхности облучаемых мишеней из SiO₂ наблюдается в интервале энергий ионов 2,5—3,75 кэВ. При этом скорость осаждения углерода лимитируется процессом эрозии поверхности роста, интенсивность которого зависит от энергии ионов. При энергии ионов выше верхних значений указанных интервалов плёнка на поверхности не формируется, и наблюдается эрозия материала мишени. Показана возможность удаления аморфного оксида с поверхности кремниевой подложки и формирование на ней эпитаксиального карбида кремния.