Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии
Методами рентгеновской дифрактометрии и просвечивающей электронной микроскопии поперечных срезов исследована структура многослойного рентгеновского зеркала (МРЗ) Si/Mg₂Si в исходном состоянии и после термического отжига в интервале температур 50—750°C. В исходном состоянии в МРЗ Si/Mg₂Si слои Si – а...
Збережено в:
| Дата: | 2016 |
|---|---|
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
2016
|
| Назва видання: | Металлофизика и новейшие технологии |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/112578 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии / Л. Е. Конотопский, И. А. Копылец, В. А. Севрюкова, Е. Н. Зубарев, В. В. Кондратенко // Металлофизика и новейшие технологии. — 2016. — Т. 38, № 6. — С. 825-838. — Бібліогр.: 16 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-112578 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-1125782017-01-24T03:03:12Z Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии Конотопский, Л.Е. Копылец, И.А. Севрюкова, В.А. Зубарев, Е.Н. Кондратенко, В.В. Взаимодействия излучения и частиц с конденсированным веществом Методами рентгеновской дифрактометрии и просвечивающей электронной микроскопии поперечных срезов исследована структура многослойного рентгеновского зеркала (МРЗ) Si/Mg₂Si в исходном состоянии и после термического отжига в интервале температур 50—750°C. В исходном состоянии в МРЗ Si/Mg₂Si слои Si – аморфные. Слои Mg₂Si представляют собой аморфную матрицу с нанокристаллическими включениями Mg2Si в метастабильной гексагональной модификации. При отжиге до 450°C наблюдается кристаллизация слоёв Mg₂Si, что сопровождается увеличением плотности силицида и, соответственно, уменьшением периода на 7,3%. Дальнейший отжиг МРЗ Si/Mg₂Si приводит к кристаллизации слоёв Si в интервале температур 500—600°C, в результате чего период рентгеновского зеркала уменьшается на 6,36%. Методами рентґенівської дифрактометрії та просвітлювальної електронної мікроскопії поперечних зрізів досліджено структуру багатошарового рентґенівського дзеркала (БРД) Si/Mg₂Si у вихідному стані та після термічного відпалу в інтервалі температур 50—750°C. У вихідному стані в БРД Si/Mg₂Si шари Si є аморфними. Шари Mg₂Si являють собою аморфну матрицю з нанокристалічними включеннями Mg₂Si у метастабільній гексагональній модифікації. При відпалі до 450°C спостерігається кристалізація шарів Mg₂Si, що супроводжується збільшенням густини силіциду і, відповідно, зменшенням періоду на 7,3%. Подальший відпал БРД Si/Mg₂Si приводить до кристалізації шарів Si в інтервалі температур 500—600°C, в результаті чого період рентґенівського дзеркала зменшується на 6,36%. The study of multilayer Si/Mg₂Si structure in initial state and after thermal annealing in temperature range 50—750°C by the methods of small-angle X-ray diffraction and cross-section transmission electron microscopy is carried out. As-deposited silicide layers are amorphous. Magnesium silicide layers are amorphous with nanocrystalline inclusions of Mg₂Si in metastable hexagonal modification. After thermal annealing at T = 450°C, the Mg₂Si layers are crystallized with increasing in density and, correspondingly, with 7.3% reduction in period of the Si/Mg₂Si multilayer. The further annealing of Si/Mg₂Si multilayer results in crystallization of Si layers in temperature range 500—600°C. Consequently, period of the Si/Mg₂Si multilayer is decreased by 6.36%. 2016 Article Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии / Л. Е. Конотопский, И. А. Копылец, В. А. Севрюкова, Е. Н. Зубарев, В. В. Кондратенко // Металлофизика и новейшие технологии. — 2016. — Т. 38, № 6. — С. 825-838. — Бібліогр.: 16 назв. — рос. 1024-1809 PACS: 07.85.Fv, 61.05.cp, 61.05.jm, 68.35.Ct, 68.37.Lp, 68.60.Dv, 68.65.Ac, 81.40.Ef DOI: 10.15407/mfint.38.06.0825 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/112578 ru Металлофизика и новейшие технологии Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
Russian |
| topic |
Взаимодействия излучения и частиц с конденсированным веществом Взаимодействия излучения и частиц с конденсированным веществом |
| spellingShingle |
Взаимодействия излучения и частиц с конденсированным веществом Взаимодействия излучения и частиц с конденсированным веществом Конотопский, Л.Е. Копылец, И.А. Севрюкова, В.А. Зубарев, Е.Н. Кондратенко, В.В. Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии Металлофизика и новейшие технологии |
| description |
Методами рентгеновской дифрактометрии и просвечивающей электронной микроскопии поперечных срезов исследована структура многослойного рентгеновского зеркала (МРЗ) Si/Mg₂Si в исходном состоянии и после термического отжига в интервале температур 50—750°C. В исходном состоянии в МРЗ Si/Mg₂Si слои Si – аморфные. Слои Mg₂Si представляют собой аморфную матрицу с нанокристаллическими включениями Mg2Si в метастабильной гексагональной модификации. При отжиге до 450°C наблюдается кристаллизация слоёв Mg₂Si, что сопровождается увеличением плотности силицида и, соответственно, уменьшением периода на 7,3%. Дальнейший отжиг МРЗ Si/Mg₂Si приводит к кристаллизации слоёв Si в интервале температур 500—600°C, в результате чего период рентгеновского зеркала уменьшается на 6,36%. |
| format |
Article |
| author |
Конотопский, Л.Е. Копылец, И.А. Севрюкова, В.А. Зубарев, Е.Н. Кондратенко, В.В. |
| author_facet |
Конотопский, Л.Е. Копылец, И.А. Севрюкова, В.А. Зубарев, Е.Н. Кондратенко, В.В. |
| author_sort |
Конотопский, Л.Е. |
| title |
Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии |
| title_short |
Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии |
| title_full |
Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии |
| title_fullStr |
Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии |
| title_full_unstemmed |
Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии |
| title_sort |
эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал si/mg₂si при термическом воздействии |
| publisher |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України |
| publishDate |
2016 |
| topic_facet |
Взаимодействия излучения и частиц с конденсированным веществом |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/112578 |
| citation_txt |
Эволюция структуры многослойных рентгеновских зеркал Si/Mg₂Si при термическом воздействии / Л. Е. Конотопский, И. А. Копылец, В. А. Севрюкова, Е. Н. Зубарев, В. В. Кондратенко // Металлофизика и новейшие технологии. — 2016. — Т. 38, № 6. — С. 825-838. — Бібліогр.: 16 назв. — рос. |
| series |
Металлофизика и новейшие технологии |
| work_keys_str_mv |
AT konotopskijle évolûciâstrukturymnogoslojnyhrentgenovskihzerkalsimg2sipritermičeskomvozdejstvii AT kopylecia évolûciâstrukturymnogoslojnyhrentgenovskihzerkalsimg2sipritermičeskomvozdejstvii AT sevrûkovava évolûciâstrukturymnogoslojnyhrentgenovskihzerkalsimg2sipritermičeskomvozdejstvii AT zubareven évolûciâstrukturymnogoslojnyhrentgenovskihzerkalsimg2sipritermičeskomvozdejstvii AT kondratenkovv évolûciâstrukturymnogoslojnyhrentgenovskihzerkalsimg2sipritermičeskomvozdejstvii |
| first_indexed |
2024-03-30T09:22:59Z |
| last_indexed |
2024-03-30T09:22:59Z |
| _version_ |
1796149900584419328 |