Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit

Analysis is made for the possibility of redistribution of mobile point defects in a semiconductor after its exposure to the electric field till the stationary conditions in the crystal are reached. Two different ways of applying the voltage are considered: (i) directly to the sample, (ii) to a capac...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:1998
Автори: Kashirina, N.I., Kislyuk, V.V., Sheinkman, M.K.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 1998
Назва видання:Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/114667
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit / N.I. Kashirina, V.V. Kislyuk, M.K. Sheinkman // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 1998. — Т. 1, № 1. — С. 41-44. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-114667
record_format dspace
spelling irk-123456789-1146672017-03-12T03:02:11Z Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit Kashirina, N.I. Kislyuk, V.V. Sheinkman, M.K. Analysis is made for the possibility of redistribution of mobile point defects in a semiconductor after its exposure to the electric field till the stationary conditions in the crystal are reached. Two different ways of applying the voltage are considered: (i) directly to the sample, (ii) to a capacitor, with the sample located between the plates. This model is applicable also to the electric field of any nature, whether external or internal, e.g. that arisning at the metal-semiconductor interface. Дається аналіз можливості розподілу рухомих точкових дефектів в напівпровіднику після дії на нього електричного поля до встановлення стаціонарних умов. Розглядаються два способи прикладання напруги: а) безпосередньо до зразка, б) до обкладинок конденсатора, між якими поміщається зразок. Модель також можна застосовувати для електричних полів будь-якої природи . як зовнішніх так і внутрішніх, що виникають, наприклад, на контакті метал-напівпровідник. Приводится анализ возможности распределения точечных дефектов в полупроводнике после воздействия на него электрического поля до установления стационарных условий. Рассматривается два способа приложения напряжения: а) непосредственно к образцу, б) к обкладкам конденсатора, между которыми помещается образец. Модель также применима для электрических полей любой природы как внешних так и внутренних, возникающих, например, на контакте металл-полупроводник. 1998 Article Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit / N.I. Kashirina, V.V. Kislyuk, M.K. Sheinkman // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 1998. — Т. 1, № 1. — С. 41-44. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. 1560-8034 PACS 61.72; 71.55. http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/114667 539.219.3 en Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
description Analysis is made for the possibility of redistribution of mobile point defects in a semiconductor after its exposure to the electric field till the stationary conditions in the crystal are reached. Two different ways of applying the voltage are considered: (i) directly to the sample, (ii) to a capacitor, with the sample located between the plates. This model is applicable also to the electric field of any nature, whether external or internal, e.g. that arisning at the metal-semiconductor interface.
format Article
author Kashirina, N.I.
Kislyuk, V.V.
Sheinkman, M.K.
spellingShingle Kashirina, N.I.
Kislyuk, V.V.
Sheinkman, M.K.
Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit
Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
author_facet Kashirina, N.I.
Kislyuk, V.V.
Sheinkman, M.K.
author_sort Kashirina, N.I.
title Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit
title_short Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit
title_full Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit
title_fullStr Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit
title_full_unstemmed Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit
title_sort theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: i. stationary limit
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
publishDate 1998
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/114667
citation_txt Theoretical approach to electrodiffusion of shallow donors in semiconductors: I. Stationary limit / N.I. Kashirina, V.V. Kislyuk, M.K. Sheinkman // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 1998. — Т. 1, № 1. — С. 41-44. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.
series Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
work_keys_str_mv AT kashirinani theoreticalapproachtoelectrodiffusionofshallowdonorsinsemiconductorsistationarylimit
AT kislyukvv theoreticalapproachtoelectrodiffusionofshallowdonorsinsemiconductorsistationarylimit
AT sheinkmanmk theoreticalapproachtoelectrodiffusionofshallowdonorsinsemiconductorsistationarylimit
first_indexed 2023-10-18T20:25:05Z
last_indexed 2023-10-18T20:25:05Z
_version_ 1796150100869775360