On the synthesis and processing of nanoparticles by plasmas
A gas aggregation system combined with a magnetron discharge is used to produce nanoparticles (NPs) from metal targets. Here, we presents an overview of the role of different parameters in the TiOx NP synthesis and available challenges in this technique. Particularly, considering the role of duty...
Збережено в:
Видавець: | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
---|---|
Дата: | 2016 |
Автори: | , , , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2016
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/115444 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Цитувати: | On the synthesis and processing of nanoparticles by plasmas / Amir Mohammad Ahadi,Thomas Strunskus, Oleksandr Polonskyi, Thomas Trottenberg,Holger Kersten , Franz Faupel // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 173-178. — Бібліогр.: 19 назв. — англ. |
Репозиторії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineРезюме: | A gas aggregation system combined with a magnetron discharge is used to produce nanoparticles (NPs) from
metal targets. Here, we presents an overview of the role of different parameters in the TiOx NP synthesis and
available challenges in this technique. Particularly, considering the role of duty cycle in the TiOx NP formation at
pulsed DC regime indicates that only at a certain duty cycle (for the given condition) a stable NP generation can be
achieved. Furthermore, the critical role of oxygen (as a reactive admixture gas) in launching and controlling of the
NP synthesis process is studied in detail. Employing an RF hollow electrode discharge for processing of silver NPs
leads to charging of most of the NPs, and surprisingly, we found that at high RF plasma powers the contribution of
charged NPs in the primary NP beam vanished in the treated beam deposition. |
---|