On the synthesis and processing of nanoparticles by plasmas

A gas aggregation system combined with a magnetron discharge is used to produce nanoparticles (NPs) from metal targets. Here, we presents an overview of the role of different parameters in the TiOx NP synthesis and available challenges in this technique. Particularly, considering the role of duty...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Видавець:Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Дата:2016
Автори: Ahadi, Amir Mohammad, Strunskus, Thomas, Polonskyi, Oleksandr, Trottenberg, Thomas, Kersten, Holger, Faupel, Franz
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2016
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/115444
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Цитувати:On the synthesis and processing of nanoparticles by plasmas / Amir Mohammad Ahadi,Thomas Strunskus, Oleksandr Polonskyi, Thomas Trottenberg,Holger Kersten , Franz Faupel // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 173-178. — Бібліогр.: 19 назв. — англ.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:A gas aggregation system combined with a magnetron discharge is used to produce nanoparticles (NPs) from metal targets. Here, we presents an overview of the role of different parameters in the TiOx NP synthesis and available challenges in this technique. Particularly, considering the role of duty cycle in the TiOx NP formation at pulsed DC regime indicates that only at a certain duty cycle (for the given condition) a stable NP generation can be achieved. Furthermore, the critical role of oxygen (as a reactive admixture gas) in launching and controlling of the NP synthesis process is studied in detail. Employing an RF hollow electrode discharge for processing of silver NPs leads to charging of most of the NPs, and surprisingly, we found that at high RF plasma powers the contribution of charged NPs in the primary NP beam vanished in the treated beam deposition.