Macroparticles in beam-plasma systems
The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of vacuum arc deposition of coatings. The results of theoretical study of MP charging and dynamics in the near-substrate sheath are presented. The charge and dynamics of MP are governed by local parameters of ion and...
Збережено в:
Дата: | 2016 |
---|---|
Автори: | , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2016
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/115448 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Macroparticles in beam-plasma systems / A.A. Bizyukov, I.О. Girka, E.V. Romashchenko, O.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 187-190. — Бібліогр.: 24 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraineid |
irk-123456789-115448 |
---|---|
record_format |
dspace |
spelling |
irk-123456789-1154482017-04-05T03:02:20Z Macroparticles in beam-plasma systems Bizyukov, A.A. Girka, I.O. Romashchenko, E.V. Chibisov, O.D. Iter and fusion reactor aspects The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of vacuum arc deposition of coatings. The results of theoretical study of MP charging and dynamics in the near-substrate sheath are presented. The charge and dynamics of MP are governed by local parameters of ion and secondary electron emission fluxes in the sheath. It is shown that the maximum possible velocity of repelled MP increases with increasing substrate bias voltage. The effect of substrate biasing is seen to be larger for MPs emitted at small angles to the cathode plane of arc evaporator. Наиболее важной технологической проблемой вакуумно-дугового осаждения покрытий является загрязне- ние макрочастицами (МЧ). Представлены результаты теоретического исследования зарядки и динамики МЧ в слое у подложки. Заряд и динамика МЧ определяются локальными параметрами ионных и электронных вторично-эмиссионных потоков в слое. Показано, что максимально возможная скорость отраженной МЧ возрастает с увеличением потенциала подложки. Эффект смещения потенциала подложки больше для МЧ, которые эмитируют под малыми углами к плоскости катода вакуумного испарителя. Найбільш важливою технологічною проблемою вакуумно-дугового осадження покриттів є забруднення ма- крочастинками (МЧ). Представлено результати теоретичного дослідження зарядки та динаміки МЧ у шарі біля підкладки. Заряд і динаміка МЧ визначаються локальними параметрами іонних та електронних вторин- но-емісійних потоків у шарі. Показано, що максимально можлива швидкість відбитої МЧ зростає зі збіль- шенням потенціалу підкладки. Ефект зсуву потенціалу підкладки більший для МЧ, які емітують під малими кутами к площині катоду вакуумного випарника. 2016 Article Macroparticles in beam-plasma systems / A.A. Bizyukov, I.О. Girka, E.V. Romashchenko, O.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 187-190. — Бібліогр.: 24 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.40.Hf http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/115448 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
collection |
DSpace DC |
language |
English |
topic |
Iter and fusion reactor aspects Iter and fusion reactor aspects |
spellingShingle |
Iter and fusion reactor aspects Iter and fusion reactor aspects Bizyukov, A.A. Girka, I.O. Romashchenko, E.V. Chibisov, O.D. Macroparticles in beam-plasma systems Вопросы атомной науки и техники |
description |
The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of vacuum arc deposition of
coatings. The results of theoretical study of MP charging and dynamics in the near-substrate sheath are presented.
The charge and dynamics of MP are governed by local parameters of ion and secondary electron emission fluxes in
the sheath. It is shown that the maximum possible velocity of repelled MP increases with increasing substrate bias
voltage. The effect of substrate biasing is seen to be larger for MPs emitted at small angles to the cathode plane of
arc evaporator. |
format |
Article |
author |
Bizyukov, A.A. Girka, I.O. Romashchenko, E.V. Chibisov, O.D. |
author_facet |
Bizyukov, A.A. Girka, I.O. Romashchenko, E.V. Chibisov, O.D. |
author_sort |
Bizyukov, A.A. |
title |
Macroparticles in beam-plasma systems |
title_short |
Macroparticles in beam-plasma systems |
title_full |
Macroparticles in beam-plasma systems |
title_fullStr |
Macroparticles in beam-plasma systems |
title_full_unstemmed |
Macroparticles in beam-plasma systems |
title_sort |
macroparticles in beam-plasma systems |
publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
publishDate |
2016 |
topic_facet |
Iter and fusion reactor aspects |
url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/115448 |
citation_txt |
Macroparticles in beam-plasma systems / A.A. Bizyukov, I.О. Girka, E.V. Romashchenko, O.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 187-190. — Бібліогр.: 24 назв. — англ. |
series |
Вопросы атомной науки и техники |
work_keys_str_mv |
AT bizyukovaa macroparticlesinbeamplasmasystems AT girkaio macroparticlesinbeamplasmasystems AT romashchenkoev macroparticlesinbeamplasmasystems AT chibisovod macroparticlesinbeamplasmasystems |
first_indexed |
2023-10-18T20:25:58Z |
last_indexed |
2023-10-18T20:25:58Z |
_version_ |
1796150157290504192 |