Macroparticles in beam-plasma systems

The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of vacuum arc deposition of coatings. The results of theoretical study of MP charging and dynamics in the near-substrate sheath are presented. The charge and dynamics of MP are governed by local parameters of ion and...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2016
Автори: Bizyukov, A.A., Girka, I.O., Romashchenko, E.V., Chibisov, O.D.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2016
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/115448
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Macroparticles in beam-plasma systems / A.A. Bizyukov, I.О. Girka, E.V. Romashchenko, O.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 187-190. — Бібліогр.: 24 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-115448
record_format dspace
spelling irk-123456789-1154482017-04-05T03:02:20Z Macroparticles in beam-plasma systems Bizyukov, A.A. Girka, I.O. Romashchenko, E.V. Chibisov, O.D. Iter and fusion reactor aspects The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of vacuum arc deposition of coatings. The results of theoretical study of MP charging and dynamics in the near-substrate sheath are presented. The charge and dynamics of MP are governed by local parameters of ion and secondary electron emission fluxes in the sheath. It is shown that the maximum possible velocity of repelled MP increases with increasing substrate bias voltage. The effect of substrate biasing is seen to be larger for MPs emitted at small angles to the cathode plane of arc evaporator. Наиболее важной технологической проблемой вакуумно-дугового осаждения покрытий является загрязне- ние макрочастицами (МЧ). Представлены результаты теоретического исследования зарядки и динамики МЧ в слое у подложки. Заряд и динамика МЧ определяются локальными параметрами ионных и электронных вторично-эмиссионных потоков в слое. Показано, что максимально возможная скорость отраженной МЧ возрастает с увеличением потенциала подложки. Эффект смещения потенциала подложки больше для МЧ, которые эмитируют под малыми углами к плоскости катода вакуумного испарителя. Найбільш важливою технологічною проблемою вакуумно-дугового осадження покриттів є забруднення ма- крочастинками (МЧ). Представлено результати теоретичного дослідження зарядки та динаміки МЧ у шарі біля підкладки. Заряд і динаміка МЧ визначаються локальними параметрами іонних та електронних вторин- но-емісійних потоків у шарі. Показано, що максимально можлива швидкість відбитої МЧ зростає зі збіль- шенням потенціалу підкладки. Ефект зсуву потенціалу підкладки більший для МЧ, які емітують під малими кутами к площині катоду вакуумного випарника. 2016 Article Macroparticles in beam-plasma systems / A.A. Bizyukov, I.О. Girka, E.V. Romashchenko, O.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 187-190. — Бібліогр.: 24 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.40.Hf http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/115448 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Iter and fusion reactor aspects
Iter and fusion reactor aspects
spellingShingle Iter and fusion reactor aspects
Iter and fusion reactor aspects
Bizyukov, A.A.
Girka, I.O.
Romashchenko, E.V.
Chibisov, O.D.
Macroparticles in beam-plasma systems
Вопросы атомной науки и техники
description The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of vacuum arc deposition of coatings. The results of theoretical study of MP charging and dynamics in the near-substrate sheath are presented. The charge and dynamics of MP are governed by local parameters of ion and secondary electron emission fluxes in the sheath. It is shown that the maximum possible velocity of repelled MP increases with increasing substrate bias voltage. The effect of substrate biasing is seen to be larger for MPs emitted at small angles to the cathode plane of arc evaporator.
format Article
author Bizyukov, A.A.
Girka, I.O.
Romashchenko, E.V.
Chibisov, O.D.
author_facet Bizyukov, A.A.
Girka, I.O.
Romashchenko, E.V.
Chibisov, O.D.
author_sort Bizyukov, A.A.
title Macroparticles in beam-plasma systems
title_short Macroparticles in beam-plasma systems
title_full Macroparticles in beam-plasma systems
title_fullStr Macroparticles in beam-plasma systems
title_full_unstemmed Macroparticles in beam-plasma systems
title_sort macroparticles in beam-plasma systems
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2016
topic_facet Iter and fusion reactor aspects
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/115448
citation_txt Macroparticles in beam-plasma systems / A.A. Bizyukov, I.О. Girka, E.V. Romashchenko, O.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 187-190. — Бібліогр.: 24 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT bizyukovaa macroparticlesinbeamplasmasystems
AT girkaio macroparticlesinbeamplasmasystems
AT romashchenkoev macroparticlesinbeamplasmasystems
AT chibisovod macroparticlesinbeamplasmasystems
first_indexed 2023-10-18T20:25:58Z
last_indexed 2023-10-18T20:25:58Z
_version_ 1796150157290504192