Латеральная фотоЭДС в контакте Шоттки
В образцах контакта Шоттки NbN—GaAs обнаружена и исследована фотоЭДС, которая генерируется вдоль границы раздела металл—полупроводник. Характер распределения ЭДС вдоль образца гетеросистемы указывает на преимущественно барьерный механизм ее генерации. Сложная знакопеременная форма спектральных хара...
Збережено в:
Видавець: | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
---|---|
Дата: | 2010 |
Автори: | , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2010
|
Назва видання: | Оптоэлектроника и полупроводниковая техника |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/115600 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Цитувати: | Латеральная фотоЭДС в контакте Шоттки / Е. Ф. Венгер, И. Готовы, Л. В. Шеховцов // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2010. — Вип. 45. — С. 100-108. — Бібліогр.: 22 назв. — рос. |
Репозиторії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraineid |
irk-123456789-115600 |
---|---|
record_format |
dspace |
spelling |
irk-123456789-1156002017-04-08T03:03:21Z Латеральная фотоЭДС в контакте Шоттки Венгер, Е.Ф. Готовы, И. Шеховцов, Л.В. В образцах контакта Шоттки NbN—GaAs обнаружена и исследована фотоЭДС, которая генерируется вдоль границы раздела металл—полупроводник. Характер распределения ЭДС вдоль образца гетеросистемы указывает на преимущественно барьерный механизм ее генерации. Сложная знакопеременная форма спектральных характеристик фотоЭДС связана с вкладом в измеряемый сигнал нескольких составляющих ЭДС, которые генерируются на потенциальных барьерах гетеросистемы металл—полупроводник. Наблюдается изменение формы спектральных характеристик и знака фотоЭДС при освещении образца со стороны металла. Это обусловлено изменением соотношения между составляющими ЭДС, которые генерируются в слоях гетеросистемы с разным уровнем проводимости. Показано, что на вид спектральных зависимостей существенно влияет переходной полупроводниковый слой, который формируется у границы раздела контакта Шоттки. A photo-emf in the NbN—GaAs Schottky contact samples has been found and studied. This photo-emf is generated along the metalsemiconductor interface. The character of its distribution along the length of heterosystem sample indicates predominantly barrier mechanism of its generation. A complicated alternating form of spectral characteristics of the photo-emf is related to contributions to the measured signal from several components that are generated at potential barriers of the metal—semiconductor heterosystem. Illumination of samples on the metal side results in change of the form of spectral characteristics and reversal of a sign of photo-emf. This is caused by variation of interrelation between the photo-emf components that are generated in the heterosystem layers with different conductivities. It is shown that a semiconductor junction layer formed near the Schottky contact interface has a pronounced effect on the form of spectral characteristics. 2010 Article Латеральная фотоЭДС в контакте Шоттки / Е. Ф. Венгер, И. Готовы, Л. В. Шеховцов // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2010. — Вип. 45. — С. 100-108. — Бібліогр.: 22 назв. — рос. 0233-7577 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/115600 535.215.6 ru Оптоэлектроника и полупроводниковая техника Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
collection |
DSpace DC |
language |
Russian |
description |
В образцах контакта Шоттки NbN—GaAs обнаружена и исследована фотоЭДС,
которая генерируется вдоль границы раздела металл—полупроводник. Характер распределения ЭДС вдоль образца гетеросистемы указывает на преимущественно барьерный механизм ее генерации. Сложная знакопеременная форма спектральных характеристик фотоЭДС связана с вкладом в измеряемый сигнал нескольких составляющих ЭДС, которые генерируются на потенциальных барьерах гетеросистемы металл—полупроводник. Наблюдается изменение формы спектральных характеристик и знака фотоЭДС при освещении образца со стороны металла. Это обусловлено изменением соотношения между составляющими ЭДС, которые генерируются в слоях гетеросистемы с разным уровнем проводимости. Показано, что на вид спектральных зависимостей существенно влияет переходной полупроводниковый слой, который формируется у границы раздела контакта Шоттки. |
format |
Article |
author |
Венгер, Е.Ф. Готовы, И. Шеховцов, Л.В. |
spellingShingle |
Венгер, Е.Ф. Готовы, И. Шеховцов, Л.В. Латеральная фотоЭДС в контакте Шоттки Оптоэлектроника и полупроводниковая техника |
author_facet |
Венгер, Е.Ф. Готовы, И. Шеховцов, Л.В. |
author_sort |
Венгер, Е.Ф. |
title |
Латеральная фотоЭДС в контакте Шоттки |
title_short |
Латеральная фотоЭДС в контакте Шоттки |
title_full |
Латеральная фотоЭДС в контакте Шоттки |
title_fullStr |
Латеральная фотоЭДС в контакте Шоттки |
title_full_unstemmed |
Латеральная фотоЭДС в контакте Шоттки |
title_sort |
латеральная фотоэдс в контакте шоттки |
publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
publishDate |
2010 |
url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/115600 |
citation_txt |
Латеральная фотоЭДС в контакте Шоттки / Е. Ф. Венгер, И. Готовы, Л. В. Шеховцов // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2010. — Вип. 45. — С. 100-108. — Бібліогр.: 22 назв. — рос. |
series |
Оптоэлектроника и полупроводниковая техника |
work_keys_str_mv |
AT vengeref lateralʹnaâfotoédsvkontaktešottki AT gotovyi lateralʹnaâfotoédsvkontaktešottki AT šehovcovlv lateralʹnaâfotoédsvkontaktešottki |
first_indexed |
2024-03-30T09:32:44Z |
last_indexed |
2024-03-30T09:32:44Z |
_version_ |
1796150172816769024 |