Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі ніобієвих та гафнієвих наноплівок, нанесених на неоксидні матеріали

• Дата: 2012
• Автори: Найдіч, Ю.В., Габ, І.І., Стецюк, Т.В., Костюк, Б.Д., Кузьменко, Є.Ф.
• Формат: Стаття
• Мова: Ukrainian
• Опубліковано: Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України 2012
• Назва видання: Адгезия расплавов и пайка материалов
• Теми: Контактное взаимодействие твердых тел на границе с твердыми и жидкими фазами
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/115870
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі ніобієвих та гафнієвих наноплівок, нанесених на неоксидні матеріали / Ю.В. Найдіч, І.І. Габ, Т.В. Стецюк, Б.Д. Костюк, Є.Ф. Кузьменко // Адгезия расплавов и пайка материалов. — 2012. — Вып 45. — С. 71-78. — Бібліогр.: 16 назв. — укр.

Досліджено кінетику диспергування ніобієвих та гафнієвих наноплівок завтовшки 100 нм, які нанесені на зразки з кераміки на основі Si₃N₄ і скловуглецю та відпалені у вакуумі при температурах 1200—1400 °С впродовж різних часових проміжків (2—20 хв). Встановлено, що інтенсивність диспергування сполучень плівка—неметал в однакових режимах відпалу різна. В наноплівках на кераміці на основі Si₃N₄ певні структурні зміни спостерігаються вже після відпалу при 1200 °С, а при температурі 1300 °С ці плівки вже значно диспергують, в той час як плівки на скловуглеці зазнають зміни лише після відпалу при 1400 °С.