Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь

Досліджено процес хіміко-механічного полірування напівпровідникових монокристалів CdTe бромвиділяючими травильними композиціями на основі водних розчинів H₂O₂–HBr–етиленгліколь. З’ясовано вплив природи в’язкого органічного компоненту на швидкість травлення і якість полірування поверхні кристалів. Оп...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2011
Автор: Стратійчук, І.Б.
Формат: Стаття
Мова:Ukrainian
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2011
Назва видання:Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/116708
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь / І.Б. Стратійчук // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2011. — Вип. 46. — С. 134-139. — Бібліогр.: 10 назв. — укр.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-116708
record_format dspace
spelling irk-123456789-1167082017-05-14T03:02:38Z Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь Стратійчук, І.Б. Досліджено процес хіміко-механічного полірування напівпровідникових монокристалів CdTe бромвиділяючими травильними композиціями на основі водних розчинів H₂O₂–HBr–етиленгліколь. З’ясовано вплив природи в’язкого органічного компоненту на швидкість травлення і якість полірування поверхні кристалів. Оптимізовано склади полірувальних травильних композицій та розроблено режими хіміко-механічного полірування кадмій телуриду. За допомогою профілографічного та металографічного аналізів досліджено стан полірованої поверхні та визначено її шорсткість. Chemical-mechanical polishing of the CdTe semiconductor single crystals by the bromine-releasing etchant compositions based on the H₂O₂–HBr–ethylene glycol aqueous solutions has been investigated. The influence of the viscous organic component on the etching rate and surface crystals polishing quality has been determined. The compositions of polishing etchants have been optimized and the conditions of the CdTe chemical mechanic polishing have been developed. The polishing surfaces and their roughness have been investigated using surface profilogram and metallography. 2011 Article Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь / І.Б. Стратійчук // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2011. — Вип. 46. — С. 134-139. — Бібліогр.: 10 назв. — укр. 0233-7577 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/116708 621.794.4 : 546.48/24 uk Оптоэлектроника и полупроводниковая техника Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Ukrainian
description Досліджено процес хіміко-механічного полірування напівпровідникових монокристалів CdTe бромвиділяючими травильними композиціями на основі водних розчинів H₂O₂–HBr–етиленгліколь. З’ясовано вплив природи в’язкого органічного компоненту на швидкість травлення і якість полірування поверхні кристалів. Оптимізовано склади полірувальних травильних композицій та розроблено режими хіміко-механічного полірування кадмій телуриду. За допомогою профілографічного та металографічного аналізів досліджено стан полірованої поверхні та визначено її шорсткість.
format Article
author Стратійчук, І.Б.
spellingShingle Стратійчук, І.Б.
Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь
Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
author_facet Стратійчук, І.Б.
author_sort Стратійчук, І.Б.
title Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь
title_short Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь
title_full Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь
title_fullStr Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь
title_full_unstemmed Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь
title_sort хіміко-механічне полірування монокристалів cdte бромвиділяючими розчинами h₂o₂—hbr—етиленгліколь
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
publishDate 2011
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/116708
citation_txt Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь / І.Б. Стратійчук // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2011. — Вип. 46. — С. 134-139. — Бібліогр.: 10 назв. — укр.
series Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
work_keys_str_mv AT stratíjčukíb hímíkomehaníčnepolíruvannâmonokristalívcdtebromvidílâûčimirozčinamih2o2hbretilenglíkolʹ
first_indexed 2023-10-18T20:28:12Z
last_indexed 2023-10-18T20:28:12Z
_version_ 1796150278196559872