Изучение деформационных эффектов в нанокристаллических фоточувствительных активированных тонких пленках p-CdTe

Изучено фото- и тензочувствительность нанокристаллических тонких пленок p-CdTe при различных деформациях. Наблюдалось увеличение фото- и тензочувствительности в зависимости от деформации-растяжения. Установлено, что деформация растяжения увеличивает не только высоты микропотенциальных барьеров, но и...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2016
Автори: Алимов, Н.Э., Ботиров, К., Мовлонов, П., Отажонов, С.М., Халилов, М.М., Эргашев, О., Якубова, Ш.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2016
Назва видання:Журнал физики и инженерии поверхности
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/116932
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Изучение деформационных эффектов в нанокристаллических фоточувствительных активированных тонких пленках p-CdTe / Н.Э. Алимов, К. Ботиров, П. Мовлонов, С.М. Отажонов, М.М. Халилов, О. Эргашев, Ш. Якубова // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2016. — Т. 1, № 2. — С. 140-144. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:Изучено фото- и тензочувствительность нанокристаллических тонких пленок p-CdTe при различных деформациях. Наблюдалось увеличение фото- и тензочувствительности в зависимости от деформации-растяжения. Установлено, что деформация растяжения увеличивает не только высоты микропотенциальных барьеров, но и их асимметрию на границах кристаллитов, которые благоприятствуют образованию высокой фото- и тензочувствительности в тонких пленках. Это объясняется изменением высоты потенциальных барьеров на границах кристаллитов за счет изменения поверхностных состояний.