Local formation of HArF in solid argon: Low-temperature limit and thermal activation
The H + Ar + F reaction leading to HArF formation in an argon matrix is studied at temperatures down to 8 K. The effects of the precursor concentration, deuteration, IR light, and deposition temperature as well as thermal activation of this reaction are studied. It is found that HArF molecules are f...
Збережено в:
| Дата: | 2010 |
|---|---|
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України
2010
|
| Назва видання: | Физика низких температур |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/117039 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Local formation of HArF in solid argon: Low-temperature limit and thermal activation / H. Lignell, L. Khriachtchev, A. Lignell, M. Räsänen // Физика низких температур. — 2010. — Т. 36, № 5. — С. 504-511. — Бібліогр.: 42 назв. — англ. |