Magnetic point contact in ferromagnetic semiconductor (Ga,Mn)As

We show that narrow constrictions, a few hundred nanometers wide, in ferromagnetic semiconductor (Ga,Mn)As layer exhibit large spin-related magnetoresistance. Moreover, we demonstrate that application of oxygen-ions implantation, instead of chemical etching, is much better method of tailoring nanome...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2003
Автори: Figielski, T., Wosinski, T., Morawski, A., Pelya, O., Makosa, A., Dobrowolski, W., Wrobel, J., Sadowski, J., Jagielski, J., Ratajczak, J.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2003
Назва видання:Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/117941
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Magnetic point contact in ferromagnetic semiconductor (Ga,Mn)As / T. Figielski, T. Wosinski, A. Morawski, O. Pelya, A. Makosa, W. Dobrowolski, J. Wrobel, J. Sadowski, J. Jagielski, J. Ratajczak // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2003. — Т. 6, № 1. — С. 53-54. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:We show that narrow constrictions, a few hundred nanometers wide, in ferromagnetic semiconductor (Ga,Mn)As layer exhibit large spin-related magnetoresistance. Moreover, we demonstrate that application of oxygen-ions implantation, instead of chemical etching, is much better method of tailoring nanometer-size circuits in (Ga,Mn)As suitable for future spin electronics.