Electron states at the Si–SiO₂ boundary (Review)

This review is aimed at analysis of the system of discrete and continuously distributed boundary electron states (BES) on (111) and (100) silicon surfaces in the Si-SiO₂ structures prepared mainly using thermal oxidation of silicon. Used here are literature data as well as results obtained by author...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2005
Автори: Primachenko, V.E., Kirillova, S.I., Venger, E.F., Chernobai, V.A.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2005
Назва видання:Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/121546
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Electron states at the Si–SiO₂ boundary (Review) / V.E. Primachenko, S.I. Kirillova, V.A. Chernobai, E.F. Venger // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2005. — Т. 8, № 4. — С. 38-54. — Бібліогр.: 95 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine