Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек

Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек

Применение сухого пленочного фоторезиста в качестве изоляции анодированных алюминиевых подложек ГИС обеспечивает ряд важных преимуществ.

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Видавець:Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Дата:1999
Автори: Короткевич, А.В., Плешкин, В.А.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 1999
Назва видання:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Теми:
Технологические процессы
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/122735
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Цитувати:Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек / А.В. Короткевич, В.А. Плешкин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 5-6. — С. 25-27. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-122735
record_format dspace
spelling irk-123456789-1227352017-07-20T03:02:51Z Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек Короткевич, А.В. Плешкин, В.А. Технологические процессы Применение сухого пленочного фоторезиста в качестве изоляции анодированных алюминиевых подложек ГИС обеспечивает ряд важных преимуществ. The application of dry film photoresist as a insulation of GIC anodic coating aluminium bases provides number of important advantages. 1999 Article Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек / А.В. Короткевич, В.А. Плешкин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 5-6. — С. 25-27. — Бібліогр.: 5 назв. — рос. 2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/122735 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
topic Технологические процессы
Технологические процессы
spellingShingle Технологические процессы
Технологические процессы
Короткевич, А.В.
Плешкин, В.А.
Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Применение сухого пленочного фоторезиста в качестве изоляции анодированных алюминиевых подложек ГИС обеспечивает ряд важных преимуществ.
format Article
author Короткевич, А.В.
Плешкин, В.А.
author_facet Короткевич, А.В.
Плешкин, В.А.
author_sort Короткевич, А.В.
title Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
title_short Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
title_full Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
title_fullStr Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
title_full_unstemmed Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
title_sort сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
publishDate 1999
topic_facet Технологические процессы
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/122735
citation_txt Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек / А.В. Короткевич, В.А. Плешкин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 5-6. — С. 25-27. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
series Технология и конструирование в электронной аппаратуре
work_keys_str_mv AT korotkevičav suhojplenočnyjfotorezistkakizolâcionnoepokrytiealûminievyhpodložek
AT pleškinva suhojplenočnyjfotorezistkakizolâcionnoepokrytiealûminievyhpodložek
first_indexed 2023-10-18T20:42:30Z
last_indexed 2023-10-18T20:42:30Z
_version_ 1796150903251664896

Схожі ресурси