Смачивание неметаллических материалов расплавами металлов в условиях, имитирующих космический вакуум и атмосферу Луны

Изучено смачивание ионных соединений (оксидов и фторидов) и графита расплавами Al, In—Ti и Cu—Ti в интервале температур 700––1200 °С в вакууме 1×10⁻²––5×10⁻⁴ Па методом лежащей капли с использованием дополнительных методов исследований. Краевые углы смачивания алюминием подложек при разной степени в...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2014
Автори: Красовский, В.П., Красовская, Н.А., Найдич, Ю.В.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України 2014
Назва видання:Адгезия расплавов и пайка материалов
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/125462
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Смачивание неметаллических материалов расплавами металлов в условиях, имитирующих космический вакуум и атмосферу Луны / В.П. Красовский, Н.А. Красовская, Ю.В. Найдич // Адгезия расплавов и пайка материалов. — 2014. — Вып 47. — С. 3-13. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:Изучено смачивание ионных соединений (оксидов и фторидов) и графита расплавами Al, In—Ti и Cu—Ti в интервале температур 700––1200 °С в вакууме 1×10⁻²––5×10⁻⁴ Па методом лежащей капли с использованием дополнительных методов исследований. Краевые углы смачивания алюминием подложек при разной степени вакуума оказались близкими по величине. Введение 0,5% (ат.) Ti в расплав индия приводит к уменьшению угла смачивания для MgF₂, SrF₂, CaF₂, SiO₂, Al₂O₃ и графита до 8, 10, 10, 20, 25 и 42 град соответственно. На основании результатов по смачиванию можно утверждать, что вакуум ниже 1×10⁻³ Па достаточен для проведения исследований капиллярных характеристик металлических расплавов, а дополнительные методы изучения — капиллярная очистка расплава, а также нанесение на исследуемые твердые поверхности металлических покрытий, которые способствуют протеканию экзотермической реакции, позволяют имитировать космический вакуум. Влияние величины вакуума обнаружено при смачивании оксидов расплавом Cu—Ti при 1200 °С. В вакууме 1×10⁻² Па наблюдался порог смачивания при увеличении концентрации Ti до 8––10% (ат.) — угол изменялся меньше, чем в вакууме 1×10⁻³ Па.