Глубокая очистка детонационного наноалмазного материала - Долматов, В.Ю.; Веханен, А.; Мюллюмяки, В.; Рудометкин, К.А.; Панова, А.Н.; Королев, К.М.; Шпадковская, Т.А. (Сверхтвердые материалы, 2013)
Представлены новые варианты химической очистки детонационных наноалмазов и алмазосодержащей детонационной шихты от водонерастворимых металлосодержащих примесей обработкой при высокой температуре растворами комплексонов концентрации 0,5–20 % (по массе) при соотношении детонационного наноамазного материала и комплексона более 0,2. В качестве комплексонов можно использовать 2,3-димеркаптопропансульфонат натрия, динатриевую соль этилендиаминтетрауксусной кислоты (трилон), тиокарбамид, роданид калия, дициандиамид, гексаметилентетрамин. Очистку детонационных наноамазов можно также проводить при ультразвуковом воздействии. Наиболее эффективным оказалось совместное применение ультразвуковой обработки и обработки растворами комплексонов, при этом количество металлосодержащих примесей значительно сократилось.