Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы

При разработке магнетронной распылительной системы для осаждения двухкомпонентной плёнки заданного состава с одного источника, где один из компонентов — магнитный материал, необходимо решить ряд задач: разработать конструкцию магнетрона, которая позволит решить проблему шунтирования магнитного поля...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Видавець:Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
Дата:2016
Автори: Бевза, О.М., Сидоренко, С.Б., Мумладзе, А.В.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2016
Назва видання:Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/129956
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Цитувати:Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы / О.М. Бевза, С.Б. Сидоренко, А.В. Мумладзе // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2016. — Т. 14, № 4. — С. 577-589. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-129956
record_format dspace
spelling irk-123456789-1299562018-02-03T03:03:17Z Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы Бевза, О.М. Сидоренко, С.Б. Мумладзе, А.В. При разработке магнетронной распылительной системы для осаждения двухкомпонентной плёнки заданного состава с одного источника, где один из компонентов — магнитный материал, необходимо решить ряд задач: разработать конструкцию магнетрона, которая позволит решить проблему шунтирования магнитного поля материалом мишени; обеспечить необходимое соотношение материалов в осаждаемой плёнке. В работе проанализированы способы решения проблемы шунтирования магнитного поля материалом мишени. Разработана конструкция магнетронной распылительной системы, которая позволяет распылять одновременно магнитный и немагнитный материалы. Разработан простой метод определения соотношения материалов в осаждаемой плёнке при осаждении их с одной магнетронной распылительной системы. Представлены результаты моделирования и экспериментального исследования разработанной магнетронной распылительной системы При розробці магнетронної розпорошувальної системи для осадження двокомпонентної плівки заданого складу з одного джерела, де один з компонентів — магнетний матеріял, необхідно вирішити ряд завдань: розробити конструкцію магнетрона, яка уможливить розв’язати проблему шунтування магнетного поля матеріялом мішені; забезпечити необхідне співвідношення матеріялів у плівці, що осаджується. В роботі проаналізовано способи розв’язання проблеми шунтування магнетного поля матеріялом мішені. Розроблено конструкцію магнетронної розпорошувальної системи, яка уможливлює розпорошувати одночасно магнетний і немагнетний матеріяли. Розроблено просту методу визначення співвідношення матеріялів у плівці, що осаджується, при їх осадженні з однієї магнетронної розпорошувальної системи. Представлено результати моделювання й експериментального дослідження розробленої магнетронної розпорошувальної системи. To create a two-component magnetron sputtering system, where one component of it is a magnetic material, it is necessary to solve the following tasks: to develop the design of the magnetron sputtering system with shunted magnetic field lines by the target material; to provide the necessary ratio of materials in the deposited film. This paper analyses the ways to solve a problem of shunting the magnetic field lines by the target material. A design of the magnetron sputtering system, which allows sputtering the magnetic and nonmagnetic materials, is developed. A simple determination method for the ratio of materials in the deposited film is suggested. The simulation results and experimental research of developed magnetron sputtering system are presented. 2016 Article Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы / О.М. Бевза, С.Б. Сидоренко, А.В. Мумладзе // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2016. — Т. 14, № 4. — С. 577-589. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. 1816-5230 PACS: 34.50.-s, 41.20.Gz, 52.25.Tx, 52.77.Dq, 81.15.Cd, 84.40.Fe, 85.70.Ay http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/129956 ru Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
description При разработке магнетронной распылительной системы для осаждения двухкомпонентной плёнки заданного состава с одного источника, где один из компонентов — магнитный материал, необходимо решить ряд задач: разработать конструкцию магнетрона, которая позволит решить проблему шунтирования магнитного поля материалом мишени; обеспечить необходимое соотношение материалов в осаждаемой плёнке. В работе проанализированы способы решения проблемы шунтирования магнитного поля материалом мишени. Разработана конструкция магнетронной распылительной системы, которая позволяет распылять одновременно магнитный и немагнитный материалы. Разработан простой метод определения соотношения материалов в осаждаемой плёнке при осаждении их с одной магнетронной распылительной системы. Представлены результаты моделирования и экспериментального исследования разработанной магнетронной распылительной системы
format Article
author Бевза, О.М.
Сидоренко, С.Б.
Мумладзе, А.В.
spellingShingle Бевза, О.М.
Сидоренко, С.Б.
Мумладзе, А.В.
Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
author_facet Бевза, О.М.
Сидоренко, С.Б.
Мумладзе, А.В.
author_sort Бевза, О.М.
title Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы
title_short Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы
title_full Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы
title_fullStr Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы
title_full_unstemmed Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы
title_sort осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
publishDate 2016
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/129956
citation_txt Осаждение двухкомпонентного состава, содержащего магнитный материал, при помощи магнетронной распылительной системы / О.М. Бевза, С.Б. Сидоренко, А.В. Мумладзе // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2016. — Т. 14, № 4. — С. 577-589. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
series Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
work_keys_str_mv AT bevzaom osaždeniedvuhkomponentnogosostavasoderžaŝegomagnitnyjmaterialpripomoŝimagnetronnojraspylitelʹnojsistemy
AT sidorenkosb osaždeniedvuhkomponentnogosostavasoderžaŝegomagnitnyjmaterialpripomoŝimagnetronnojraspylitelʹnojsistemy
AT mumladzeav osaždeniedvuhkomponentnogosostavasoderžaŝegomagnitnyjmaterialpripomoŝimagnetronnojraspylitelʹnojsistemy
first_indexed 2023-10-18T20:59:02Z
last_indexed 2023-10-18T20:59:02Z
_version_ 1796151618943582208