2025-02-22T10:27:53-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-130259%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-22T10:27:53-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-130259%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-22T10:27:53-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK
2025-02-22T10:27:53-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response
Метод вимірювання концентрації нерівноважних носіїв заряду в напівпровіднику та їх часу життя за допомогою фотонного кристалу з дефектною модою
Целью работы является экспериментальное исследование влияния свойств кремниевого дефектного слоя диэлектрического фотонного кристалла на спектральные свойства пика пропускания. Показано влияние толщины дефектного слоя на частоту дефектной моды. Продемонстрирована и проанализирована при помощи фото...
Saved in:
Main Authors: | , , , |
---|---|
Format: | Article |
Language: | Ukrainian |
Published: |
Інститут радіофізики і електроніки ім. А.Я. Усикова НАН України
2017
|
Series: | Радіофізика та електроніка |
Subjects: | |
Online Access: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/130259 |
Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
Summary: | Целью работы является экспериментальное исследование влияния свойств кремниевого дефектного слоя диэлектрического фотонного кристалла на спектральные свойства пика пропускания. Показано влияние толщины дефектного слоя на частоту дефектной моды. Продемонстрирована и проанализирована при помощи фотонного кристалла возможность изменения характеристик пика пропускания посредством облучения кремниевого слоя зеленым лазером. Экспериментально обнаружено, что облучение приводит к уменьшению величины коэффициента прохождения на частоте дефектной моды, но не изменяет частоту пика. Оценены концентрация неравновесных носителей заряда и их время жизни. Результаты данной работы могут быть использованы при производстве управляемых устройств миллиметрового диапазона длин волн и в качестве метода неразрушающего контроля свойств при производстве полупроводников. |
---|