Semiconductor surfaces structurization induced by ultrasound

Gallium arsenide and silicon substrates were exposed to cavitation impact induced by focusing a high frequency acoustic wave into liquid nitrogen. Optical and atomic force microscopy methods as well as energy dispersive X-ray spectroscopy were used for analysis of the surface morphology and chemical...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Видавець:НТК «Інститут монокристалів» НАН України
Дата:2012
Автор: Savkina, R.K.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2012
Назва видання:Functional Materials
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/134037
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Цитувати:Semiconductor surfaces structurization induced by ultrasound / R.K. Savkina // Functional Materials. — 2012. — Т. 19, № 1. — С. 38-43. — Бібліогр.: 18 назв. — англ.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-134037
record_format dspace
spelling irk-123456789-1340372018-06-12T03:04:18Z Semiconductor surfaces structurization induced by ultrasound Savkina, R.K. Characterization and properties Gallium arsenide and silicon substrates were exposed to cavitation impact induced by focusing a high frequency acoustic wave into liquid nitrogen. Optical and atomic force microscopy methods as well as energy dispersive X-ray spectroscopy were used for analysis of the surface morphology and chemical composition of semiconductor surface. Microstructures formation as well as change of the chemical composition of the surface was found. The morphology of the structures is highly dependent on the acoustic parameters. Зразки арсеніду галію і кремнію піддано впливу кавітації, збудженої у кріогенній рідині сфокусованим високочастотним ультразвуком. Морфологія поверхні оброблених зразків вивчалася методом оптичної та атомної силової мікроскопії, а також методом електронної мікроскопії з елементним аналізом. Виявлено утворення субмікронних структур і зміну хімічного складу поверхні. Морфологія структур залежить від акустичних параметрів. Образцы арсенида галлия и кремния подвергнуты воздействию кавитации, возбужденной в криогенной жидкости сфокусированным высокочастотным ультразвуком. Морфология поверхности обработанных образцов изучалась методом оптической и атомной силовой микроскопии, а также методом электронной микроскопии с элементным анализом. Обнаружено образование субмикронных структур и изменение химического состава поверхности. Морфология структур зависит от акустических параметров. 2012 Article Semiconductor surfaces structurization induced by ultrasound / R.K. Savkina // Functional Materials. — 2012. — Т. 19, № 1. — С. 38-43. — Бібліогр.: 18 назв. — англ. 1027-5495 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/134037 en Functional Materials НТК «Інститут монокристалів» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Characterization and properties
Characterization and properties
spellingShingle Characterization and properties
Characterization and properties
Savkina, R.K.
Semiconductor surfaces structurization induced by ultrasound
Functional Materials
description Gallium arsenide and silicon substrates were exposed to cavitation impact induced by focusing a high frequency acoustic wave into liquid nitrogen. Optical and atomic force microscopy methods as well as energy dispersive X-ray spectroscopy were used for analysis of the surface morphology and chemical composition of semiconductor surface. Microstructures formation as well as change of the chemical composition of the surface was found. The morphology of the structures is highly dependent on the acoustic parameters.
format Article
author Savkina, R.K.
author_facet Savkina, R.K.
author_sort Savkina, R.K.
title Semiconductor surfaces structurization induced by ultrasound
title_short Semiconductor surfaces structurization induced by ultrasound
title_full Semiconductor surfaces structurization induced by ultrasound
title_fullStr Semiconductor surfaces structurization induced by ultrasound
title_full_unstemmed Semiconductor surfaces structurization induced by ultrasound
title_sort semiconductor surfaces structurization induced by ultrasound
publisher НТК «Інститут монокристалів» НАН України
publishDate 2012
topic_facet Characterization and properties
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/134037
citation_txt Semiconductor surfaces structurization induced by ultrasound / R.K. Savkina // Functional Materials. — 2012. — Т. 19, № 1. — С. 38-43. — Бібліогр.: 18 назв. — англ.
series Functional Materials
work_keys_str_mv AT savkinark semiconductorsurfacesstructurizationinducedbyultrasound
first_indexed 2023-10-18T21:07:13Z
last_indexed 2023-10-18T21:07:13Z
_version_ 1796151976311914496