Photoelectric memory in 6H-SiC

In the investigated structures, the phenomenon of photoelectric memory is observed connected with the increase of a dark current by about 3 decimal orders and retained for a long time after the structure illumination with light of E = 3 eV energy at T = 300 K. The current-voltage characteristic is I...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2004
Автор: Duisenbaev, M.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2004
Назва видання:Functional Materials
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/138804
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Photoelectric memory in 6H-SiC / M. Duisenbaev // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 2. — С. 372-375. — Бібліогр.: 13 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-138804
record_format dspace
spelling irk-123456789-1388042018-06-20T03:05:44Z Photoelectric memory in 6H-SiC Duisenbaev, M. In the investigated structures, the phenomenon of photoelectric memory is observed connected with the increase of a dark current by about 3 decimal orders and retained for a long time after the structure illumination with light of E = 3 eV energy at T = 300 K. The current-voltage characteristic is I ~ Vn, where n = 4.3. Optical and temperature quenching of photoconductivity were observed. Within a narrow range of light intensity, the lux-current characteristic shows a superlinear dependence with к = 4 then passing into a sublinear one with к = 0.7. The observable maximum relaxation time of residual conductivity is т = 5-104 s. Under illumination with light of energy E = 1.1 to 2 eV, the structure exhibits a sharp reduction of т. As the voltage applied to the structure increases, т decreases. В исследованных структурах наблюдается явление фотоэлектрической памяти, связанное с возрастанием темнового тока на 3 порядка и сохраняющееся в течение длительного времени после освещения структуры светом с энергией Е = 3 эВ при Т = 300°K. Вольт-амперная характеристика I ~ Vа, где n = 4.3. Наблюдались оптическое и температурное гашение фотопроводимости. В узкой области изменения интенсивности света на люкс-амперной характеристике имеется суперлинейная зависимость с показателем к = 4, а затем переходящей в сублинейный участок с к = 0.7. Максимально наблюдаемое время релаксации остаточной проводимости т = 5-104 с. Освещение структуры светом с энергией Е = 1.1-2 эВ приводит к резкому уменьшению т. С увеличением приложенного напряжения к структуре т уменьшается. У досліджєних структурах спостерігається явище фотоелектричної пам’яті пов’язане зі зростанням темнового струму на 3 порядки, яке зберігається протягом тривалого часу після освітлення структури світлом з енергією E = 3 еВ при T = 300 К. Вольт-ам-перна характеристика I ~ Vі, де n = 4.3. Спостерігалося оптичне й температурне гасіння фотопровідності. У вузькій області зміни інтенсивності світла на люкс-амперній характеристиці має місце суперлінійна залежність з показником к = 4, яка потім переходить у сублінійну дільницю з к = 0.7. Максимальний спостережений час релаксації залишкової провідності т = 5-104 с. Освітлення структури світлом з енергією E = 1,12 еВ викликає різке зменшення т. При зростанні прикладеної до структури напруги т зменшується. 2004 Article Photoelectric memory in 6H-SiC / M. Duisenbaev // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 2. — С. 372-375. — Бібліогр.: 13 назв. — англ. 1027-5495 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/138804 en Functional Materials НТК «Інститут монокристалів» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
description In the investigated structures, the phenomenon of photoelectric memory is observed connected with the increase of a dark current by about 3 decimal orders and retained for a long time after the structure illumination with light of E = 3 eV energy at T = 300 K. The current-voltage characteristic is I ~ Vn, where n = 4.3. Optical and temperature quenching of photoconductivity were observed. Within a narrow range of light intensity, the lux-current characteristic shows a superlinear dependence with к = 4 then passing into a sublinear one with к = 0.7. The observable maximum relaxation time of residual conductivity is т = 5-104 s. Under illumination with light of energy E = 1.1 to 2 eV, the structure exhibits a sharp reduction of т. As the voltage applied to the structure increases, т decreases.
format Article
author Duisenbaev, M.
spellingShingle Duisenbaev, M.
Photoelectric memory in 6H-SiC
Functional Materials
author_facet Duisenbaev, M.
author_sort Duisenbaev, M.
title Photoelectric memory in 6H-SiC
title_short Photoelectric memory in 6H-SiC
title_full Photoelectric memory in 6H-SiC
title_fullStr Photoelectric memory in 6H-SiC
title_full_unstemmed Photoelectric memory in 6H-SiC
title_sort photoelectric memory in 6h-sic
publisher НТК «Інститут монокристалів» НАН України
publishDate 2004
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/138804
citation_txt Photoelectric memory in 6H-SiC / M. Duisenbaev // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 2. — С. 372-375. — Бібліогр.: 13 назв. — англ.
series Functional Materials
work_keys_str_mv AT duisenbaevm photoelectricmemoryin6hsic
first_indexed 2023-10-18T21:18:36Z
last_indexed 2023-10-18T21:18:36Z
_version_ 1796152473103106048